UV光源技術的進步保證了UV/O3表面改性技術充分發(fā)揮其突出的優(yōu)越性。UV/O3表面改性技術因能處理得到極高的清潔度與表面接著性，在固體表面處理中越來越得到廣泛的應用。結果顯示，經照射后表面C-H結合減少，-COO-增加，C=O產生，表明表面得到改質。這樣，具有多極性的富有氧的原子團的增多材料表面的親水性得到提高。表面處理后對提高材料表面的接著性非常有效。硅膠等產品在短波長的照射下產生微米級的硅氧化層，**提高硅膠產品表面的表層特性。傳送式光清洗機是我們的明星產品之一，讓我們?yōu)槟故酒洫毺氐那鍧嵭Ч透咝阅?！陶瓷UV表面清洗供應商UV/O3清洗技術可以有效的去除硅片表面的有機雜質，對硅片表面...

UV準分子放電燈，又稱紫外線準分子燈，是利用在紫外線燈管外的高壓、高頻對燈管內的稀有氣體進行轟擊發(fā)出單一的172nm紫外線，光子能量達696KJ/mol，高于絕大多數(shù)有機分子鍵能。利用其單一的**紫外線，可實現(xiàn)很好的半導體、液晶屏制造中的光清洗、光改性，處理效果好，速度快。工作原理：紫外線照射固體表面后，表面的污染物有機分子結合被強的光能切斷、氧化，而后分解成氧氣和氫氣等易揮發(fā)性物質，**終揮發(fā)消失，被清洗后的表面清潔度極高，能把膜狀的油污清洗到單分子層以下，水接觸角可達小于等于1度。紫外線準分子燈波長短，比低氣壓UV放電管具有更快的處理速度和更***的有機物處理對象；波長單一，波長范...

高壓**放電管發(fā)出的具有代表性的紫外線是365nm，光子能量328KJ/mol；而低壓**放電管發(fā)出的具有代表性的紫外線是，光子能量分別為472KJ/mol和647KJ/mol;準分子放電管（Xe2*）的波長172nm，光子能量分別為696KJ/mol。要分解分子的結合，就要使用發(fā)出比分子的結合能強的光源。下表列出了主要的化學分子的結合能。由表可知，比365nm線的能量高的分子結合很多，但大多數(shù)比172nm線的能量低。準分子放電管和低壓放電管要比高壓放電管以及其他放電燈更適合表面處理等需要分解有機物的領域，能切斷絕大多數(shù)的有機分子結合。UV照射固體表面后，表面的污染物有機分子結合被...

不銹鋼鑄件表面的清理主要分為干類和濕類兩大類。干類清理法主要是拋丸處理，濕類清理法主要有點解液壓清砂和水清砂等方法。干類清理法以拋丸處理為主，通過以壓縮空氣為動力，以一定的速度將彈丸噴射到不銹鋼鑄件表面，清洗表面的沾砂和氧化鐵皮等。然而，由于效率低、清理不均勻、效果差等原因，這種摩擦清理方法已經幾乎被淘汰。濕類清理法主要利用電液錘效應原理，通過在水中放電產生高壓脈沖，產生大的液力沖擊，去除不銹鋼鑄件表面的粘附物。但是，濕類清洗通常需要使用特殊化學品或者制造特定的清洗環(huán)境，相比之下，我們推薦金屬制造處理類企業(yè)選擇UV光源清洗設備進行表面處理清洗，能夠減少對金屬表面的傷害，并且簡化清洗步驟。光纖表...

光纖表面清洗的主要目的是：去除光纖表面的污染物，以保證光纖的傳輸性能和穩(wěn)定性。而UV（紫外線）光清洗作為一種高效、環(huán)保的清洗方法，被廣泛應用于光纖表面的清洗過程。首先，UV光在光纖表面清洗中具有高效的特點。紫外線能夠在短時間內殺滅大部分的微生物和細菌，并對有機物進行分解，從而有效地***光纖表面的污染物。與傳統(tǒng)的清洗方法相比，UV光清洗能夠更快速地去除光纖表面的污染，提高清洗效率。其次，UV光清洗不需要使用任何化學物質和溶劑。傳統(tǒng)的清洗方法往往需要使用一些化學物質來去除光纖表面的污染物，這些化學物質對環(huán)境和人體健康都有一定的影響。而UV光清洗不產生任何有害物質，符合環(huán)保要求，對人體...

一種常用的清潔方法是利用紫外線輻照玻璃表面，通過輻照使玻璃表面的碳氫化合物等污物分解，從而達到清潔的目的。通過在空氣中使用紫外線輻照玻璃15小時，就能得到清潔的表面。如果使用可產生臭氧波長的紫外線輻照玻璃，即可達到更好的效果。這是因為玻璃表面的污物受到紫外線激發(fā)后會離解，并與臭氧中的高活性原子態(tài)氧發(fā)生反應，生成易揮發(fā)的H2O、CO2和N2，從而清洗污物。實際生產中，玻璃表面的污物往往不止一種類型，通常含有多種組分的污物。因此，需要根據(jù)污物的類型選擇合適的清洗劑，并采用多種方法進行綜合處理，以提高清洗質量和效率。不論采用哪種清洗方式，都追求對清洗物體的傷害**小化。因此，紫外光清洗是...

對半導體進行表面清洗的原因如下：去除污染物：半導體材料生產和加工過程中容易附著雜質和有機物，這些污染物可能對半導體元件的電性能和結構性能產生負面影響。通過清洗可以將這些污染物去除，提高半導體元件的質量。保證界面質量：在半導體器件與懸空幾何結構（比如門絕緣層）之間，雜質的存在可能會導致界面能帶彎曲、電子狀態(tài)密度增加等問題，從而影響器件的性能。清洗可以保持界面的純凈度，提高器件的效率和性能。消除壓力殘留：在半導體器件加工過程中，可能存在各種應力源，如薄膜的沉積過程、熱處理等都可能導致應力，這些應力可能對器件性能產生負面影響。清洗可以幫助消除這些應力殘留，提高器件的可靠性。我公司銷售半導...

UV表面改質的特點○大氣中處理，簡單方便、環(huán)保、無二次污染，無需加熱、藥液等處理?！饑鴥泉氂械某叱隽Τ滩ㄩL紫外線光源，*需短時間（秒單位）照射，發(fā)揮強大的處理能力，從實驗室進入產業(yè)應用。○相對于濕式表面改性或等離子改性成本低。半導體芯片、掩膜、封裝樹脂材、水晶振動子、IC儲存器回路、機能膜、保護層液晶玻璃、ITO表面、TN、STN用絕緣膜、配向膜、結合劑表面、石英玻璃、光纖、光刻版、LED元件、光伏硅片。。。上海國達特殊光源有限公司值得您的信賴，我們將為您提供的設備與質量服務！四川晶圓UV表面清洗廠家 我們的公司還擁有前列的生產設備和生產工藝。我們的生產線采用先進的自動化工藝，能...

光纖在通信領域中扮演著重要的角色，具有傳輸速度快、帶寬大、抗干擾能力強等優(yōu)點。然而，在光纖的使用過程中，會不可避免地受到污染的影響，這將導致光纖的傳輸性能下降，甚至無法正常工作。因此，對光纖進行清洗變得尤為重要。光纖表面污染的原因主要有以下幾方面：首先，由于光纖表面通常覆蓋有一層保護層，該保護層能夠有效地防止外界的污染物進入光纖內部。然而，隨著時間的推移，保護層可能會受到磨損或損壞，從而使得污染物有機會進入光纖表面。其次，光纖在安裝和維護過程中，可能會接觸到可能導致表面污染的物質，例如油脂、灰塵、污水等。這些物質一旦附著在光纖表面，將會影響其傳輸性能。再次，光纖在使用過程中可能會因...

uv光清洗技術應用領域***，包括以下石英/玻璃制品的表面清洗：液晶面板、等離子電視屏幕、彩色過濾片、光罩、棱鏡、透鏡、反射鏡、平板顯示器/液晶顯示器。增強玻璃的除氣作用；微電子產品的表面清洗：微型馬達軸、磁頭驅動架、光盤、光電器件、手機攝像頭、微型喇叭/受話器震膜、半導體硅片、掩膜版。如去除光刻機臺上的光刻膠殘留物；精密集成電路的表面清洗：液晶顯示器ITO、精密電路板、軟性電路板接頭、COG的清洗、COF(ILB)接合面的清洗、薄膜基板的清洗、金屬基板的清洗、基片藍膜去除與終測后墨跡***、BGA基板與粘結墊的清洗；在膠粘接或是印刷之前，對高分子聚合制品的表面改性：增強蝕刻特氟隆、氟橡膠以及...

水晶震動子是一種被廣泛應用于各種科研和工業(yè)生產領域的精密儀器。它的表面通常包含著各種有害物質，例如粉塵、油脂、污漬等。這些有害物質不僅會影響到水晶震動子的正常運行，還可能導致測試結果的誤差。因此，清洗水晶震動子的表面是非常必要的。在傳統(tǒng)清洗方法中，常使用有機溶劑或酸堿溶液進行清洗。然而，這些方法存在一些不足之處。首先，有機溶劑和酸堿溶液可能會對水晶震動子的材料產生腐蝕作用。其次，清洗過程中會產生大量的廢液，對環(huán)境造成污染。此外，還存在清洗效果不佳的問題。因此，采用一種更加安全、高效的清洗方法勢在必行。我公司銷售量產用超精密光清洗設備，放電管功率：40-1000W×管數(shù)，比較大照射范...

由于大功率超高功率低氣壓UV放電管的開發(fā)進展，以及微電子等產品的超微細化，微電子和超精密器件等產品在制造過程中，可以使用短波長紫外線和臭氧進行干式光表面處理，以實現(xiàn)超精密清洗和改善表面接著性和附著性的目的。在半導體器件、液晶顯示元件、光學制品等制造中，使用紫外線和臭氧的干式光表面處理技術已經成為不可或缺的技術手段。這項技術將取代傳統(tǒng)的濕式技術，成為氟利昂的替代技術。上海國達特殊光源有限公司作為專業(yè)的UV清洗光源及設備提供商，專注與UV光源領域的研發(fā)制造，致力為客戶群體提供高質量的UV清洗光源設備。準分子表面清洗光源我們有專業(yè)設備，為您提供的清潔光源！鈦鎳UV表面清洗多少錢 半導體表面...

準分子表面UV清洗是一種利用準分子激光器產生的紫外光來清潔和凈化物體表面的技術。它通過高能光源產生的強烈紫外線照射在物體表面，使表面的有機物質能夠被分解，從而達到清洗和凈化的效果。準分子表面UV清洗光源與設備的主要功效包括以下幾個方面：高度清潔和凈化能力：準分子表面UV清洗光源與設備能夠在微米級別上清洗和凈化物體表面的有機物質。它可以去除包括油污、灰塵、細菌、病毒等在內的各種污染物，使物體表面煥然一新；高效率和高速度清洗：準分子表面UV清洗光源與設備采用高能光源進行清洗，其清洗速度比傳統(tǒng)的清洗方法更快。同時它還具有高效率的特點，能夠在短時間內完成大面積物體的清洗工作。 晶圓表面清洗是我們的...

一種常用的清潔方法是利用紫外線輻照玻璃表面，通過輻照使玻璃表面的碳氫化合物等污物分解，從而達到清潔的目的。通過在空氣中使用紫外線輻照玻璃15小時，就能得到清潔的表面。如果使用可產生臭氧波長的紫外線輻照玻璃，即可達到更好的效果。這是因為玻璃表面的污物受到紫外線激發(fā)后會離解，并與臭氧中的高活性原子態(tài)氧發(fā)生反應，生成易揮發(fā)的H2O、CO2和N2，從而清洗污物。實際生產中，玻璃表面的污物往往不止一種類型，通常含有多種組分的污物。因此，需要根據(jù)污物的類型選擇合適的清洗劑，并采用多種方法進行綜合處理，以提高清洗質量和效率。不論采用哪種清洗方式，都追求對清洗物體的傷害**小化。因此，紫外光清洗是...

對半導體進行表面清洗的原因如下：去除污染物：半導體材料生產和加工過程中容易附著雜質和有機物，這些污染物可能對半導體元件的電性能和結構性能產生負面影響。通過清洗可以將這些污染物去除，提高半導體元件的質量。保證界面質量：在半導體器件與懸空幾何結構（比如門絕緣層）之間，雜質的存在可能會導致界面能帶彎曲、電子狀態(tài)密度增加等問題，從而影響器件的性能。清洗可以保持界面的純凈度，提高器件的效率和性能。消除壓力殘留：在半導體器件加工過程中，可能存在各種應力源，如薄膜的沉積過程、熱處理等都可能導致應力，這些應力可能對器件性能產生負面影響。清洗可以幫助消除這些應力殘留，提高器件的可靠性。我公司銷售半導...

光學器件表面的清洗可以提高設備的可靠性和穩(wěn)定性。在光學器件的制造過程中，表面常常保留一定量的氧化物和化學殘留物。這些殘留物在長時間的使用中可能會發(fā)生變化，使得光學器件的性能變得不穩(wěn)定。此外，光學器件的表面可能會產生吸附等現(xiàn)象，導致其與環(huán)境中的其他物質發(fā)生化學反應，從而損害器件的性能。通過定期清洗光學器件的表面，可以有效去除這些殘留物和污染物，保持器件的穩(wěn)定性和可靠性。UV（紫外線）光是一種用于光學器件表面清洗的有效工具。 歡迎來電咨詢，我們將為您提供實驗室光清洗機的產品信息與價格詳情！浙江UV光清洗光源供應商 紫外光清洗技術不僅適用于光電子產品的清洗，還可以用于生物醫(yī)藥、汽車電子...

陶瓷表面清洗是指對陶瓷材料的表面進行清洗和去污的過程。陶瓷是一種無機非金屬材料，具有高硬度、耐磨損、耐高溫等特點，常用于制作器皿、建筑材料等。陶瓷表面清洗的目的是去除陶瓷表面的污漬、油脂等雜質，提高陶瓷的外觀和質量。陶瓷表面污漬的存在會影響陶瓷的外觀美觀度，且可能對陶瓷材料的性能產生負面影響。例如，在制作陶瓷器皿時，清潔表面可以確保食品的清潔和衛(wèi)生，提高從容器中享用食品的體驗。采用UV光清洗陶瓷表面具有以下優(yōu)勢：高效快捷：UV光清洗可以在短時間內對陶瓷表面進行清洗，提高清洗效率。無需化學清洗劑：UV光清洗不需要使用化學清洗劑，減少對環(huán)境的污染。安全環(huán)保：UV光清洗不產生二次污染物，...

硅片是電子器件的重要組成部分，因此需要保持其表面的潔凈。常用的硅片清洗技術主要分為濕法清洗和干法清洗兩種。濕法清洗是指使用具有腐蝕性和氧化性的化學溶劑來清洗硅片表面。常用的溶劑包括硫酸（H2SO4）、過氧化氫（H2O2）、氫氟酸（DHF）、氨水（NH3·H2O）等。在清洗過程中，這些溶劑能夠與硅片表面的雜質粒子發(fā)生化學反應，生成可溶性物質、氣體或直接脫落，從而實現(xiàn)清洗效果。干法清洗則是指在清洗過程中不使用化學溶劑。常見的技術包括氣相干洗技術、束流清洗技術和紫外線-臭氧清洗技術（UV/O3）。其中，UV/O3清洗技術可以有效去除硅片表面的有機雜質，并且對硅片表面沒有損害。此外，它還可以改善硅片表...

它可以去除包括油污、灰塵、細菌、病毒等在內的各種污染物，使物體表面煥然一新。無二次污染和無殘留物：準分子表面UV清洗光源與設備清洗過程中不產生任何有害物質，不會對環(huán)境和人體產生污染。同時，它清洗后不會留下任何殘留物，確保清洗的徹底性和安全性。***適用性：準分子表面UV清洗光源與設備可應用于多種物體表面的清洗和凈化，包括玻璃、陶瓷、塑料、金屬等。無論是工業(yè)生產中的設備清洗，還是醫(yī)療器械、光學元件等高精密度物體表面的清洗，準分子表面UV清洗光源與設備都能夠提供理想的清洗效果。歡迎來電洽談，我們將為您提供實驗室光清洗機的專業(yè)解決方案！福建光學器件UV表面清洗生產廠家 我們公司的晶圓表面UV光清洗...

工程塑料表面清洗UV光清洗發(fā)展前景廣闊，主要有以下幾個原因：清洗效果好：UV光清洗可有效去除表面的污垢和油脂，使工程塑料表面清潔無污染。環(huán)保節(jié)能：UV光清洗無需使用化學溶劑，不產生污染物，符合環(huán)保要求。高效快速：UV光清洗時間短，清洗效果好，能快速提高生產效率。安全可靠：UV光清洗沒有使用化學溶劑，不會對工程塑料產生腐蝕或損傷，保證工程塑料的使用壽命。因此，工程塑料表面清洗UV光清洗將會得到廣泛應用，在工程塑料加工行業(yè)具有良好的市場前景。光纖表面清洗是我們公司的技術特色，我們將為您提供的光纖清潔方案！甘肅光學器件UV表面清洗價格 一種常用的清潔方法是利用紫外線輻照玻璃表面，通過輻照使...

水晶震動子是一種被廣泛應用于各種科研和工業(yè)生產領域的精密儀器。它的表面通常包含著各種有害物質，例如粉塵、油脂、污漬等。這些有害物質不僅會影響到水晶震動子的正常運行，還可能導致測試結果的誤差。因此，清洗水晶震動子的表面是非常必要的。在傳統(tǒng)清洗方法中，常使用有機溶劑或酸堿溶液進行清洗。然而，這些方法存在一些不足之處。首先，有機溶劑和酸堿溶液可能會對水晶震動子的材料產生腐蝕作用。其次，清洗過程中會產生大量的廢液，對環(huán)境造成污染。此外，還存在清洗效果不佳的問題。因此，采用一種更加安全、高效的清洗方法勢在必行。我公司銷售量產用超精密光清洗設備，放電管功率：40-1000W×管數(shù)，比較大照射范...

方便快捷：UV光清洗是一種非接觸式的清洗方法，可以對復雜形狀和薄膜等容易受損的光學器件進行清洗，而不需要拆卸或調整器件。與傳統(tǒng)的清洗方法相比，使用UV光清洗可以節(jié)省時間和勞動力，提高清洗效率。綜上所述，光學器件表面的清洗對于保持器件的性能和穩(wěn)定性非常重要。UV光作為一種高效徹底、無殘留物、無機械損傷和方便快捷的清洗工具，可以幫助我們更好地清洗光學器件表面，提高光學器件的使用壽命和性能。在使用光學器件時，我們應養(yǎng)成定期清洗器件表面的習慣，保持其良好的清潔度，以保證光學器件的比較好使用效果。ITO玻璃清洗是我們的專業(yè)領域之一，我們將為您展示的清潔技術設備和專業(yè)知識！天津半導體UV表面清洗高壓**放...

UV光清洗技術是一種新興的清洗方法，它利用紫外線照射水晶震動子表面，通過紫外線的能量使各種有害物質發(fā)生分解并氧化，從而實現(xiàn)***且徹底的清洗效果。相比傳統(tǒng)清洗方法，UV光清洗具有以下幾個***的優(yōu)勢：首先，UV光清洗是一種物理方法，不使用任何化學溶劑，因此不會對水晶震動子的材料產生腐蝕作用。這保證了水晶震動子的表面不會受損，從而延長了其使用壽命。其次，UV光清洗過程中不產生任何廢液，不會對環(huán)境造成污染。這使得清洗過程變得更加環(huán)保和可持續(xù)。上海國達特殊光源有限公司真誠歡迎您來電洽談，我們將盡心盡力為您提供比較好質的設備！福建傳送式UV光清洗機多少錢uv光清洗技術應用領域***，包括以下石英/玻璃...

UV表面改質的特點○大氣中處理，簡單方便、環(huán)保、無二次污染，無需加熱、藥液等處理?！饑鴥泉氂械某叱隽Τ滩ㄩL紫外線光源，*需短時間（秒單位）照射，發(fā)揮強大的處理能力，從實驗室進入產業(yè)應用。○相對于濕式表面改性或等離子改性成本低。半導體芯片、掩膜、封裝樹脂材、水晶振動子、IC儲存器回路、機能膜、保護層液晶玻璃、ITO表面、TN、STN用絕緣膜、配向膜、結合劑表面、石英玻璃、光纖、光刻版、LED元件、光伏硅片。。。光纖表面清洗是我們公司的技術特色，我們將為您提供的光纖清潔方案！河南光纖UV表面清洗 液晶玻璃清洗是指對液晶玻璃表面進行清潔和去除污垢的過程。液晶玻璃一般用于顯示器、手機屏幕...

在制作光伏電池和集成電路過程中，硅片清洗非常重要。硅片是從硅棒上切割下來的，表面的結構處于被破壞的狀態(tài)，容易吸附外界的雜質粒子，導致硅片表面被污染且性能變差。其中的顆粒雜質會降低硅片的介電強度，金屬離子會影響電池結構和工作效率，有機化合物會使氧化層質量變差，水分會加劇硅表面的腐蝕。因此，清洗硅片既要去除雜質，還要使其表面鈍化以減小吸附能力。常用的硅片清洗技術有濕法清洗和干法清洗。濕法清洗采用化學溶劑，如硫酸、過氧化氫等，將硅片表面的雜質溶解或脫離。在清洗過程中，可以通過超聲波、加熱和真空等處理方式來增加清洗效果。***，使用超純水進行清洗，以獲取達到潔凈度要求的硅片。這種方法適用于...

工程塑料表面清洗技術主要包括以下幾種：溶劑清洗：使用有機溶劑溶解工程塑料表面的污垢和油脂，然后用刷子或噴槍清洗。超聲波清洗：通過超聲波振動產生空化泡，破裂液體分子層，形成溶液沖擊力，清洗工程塑料表面。納米清洗：利用納米顆粒在表面形成結構緊密的納米層，形成一種薄膜，提高表面的防污能力。水噴清洗：通過高壓水流沖擊和沖刷工程塑料表面的污垢，以達到清洗的目的。UV光清洗：利用紫外線照射工程塑料表面，破壞有機物分子的結構，***表面的污垢和油脂。 準分子表面清洗光源是我們的產品，讓我們?yōu)槟峁┓€(wěn)定可靠的清潔光源！湖北172nm清洗報價UV/O3清洗技術可以有效的去除硅片表面的有機雜質，對硅片表面無損...

方便快捷：UV光清洗是一種非接觸式的清洗方法，可以對復雜形狀和薄膜等容易受損的光學器件進行清洗，而不需要拆卸或調整器件。與傳統(tǒng)的清洗方法相比，使用UV光清洗可以節(jié)省時間和勞動力，提高清洗效率。綜上所述，光學器件表面的清洗對于保持器件的性能和穩(wěn)定性非常重要。UV光作為一種高效徹底、無殘留物、無機械損傷和方便快捷的清洗工具，可以幫助我們更好地清洗光學器件表面，提高光學器件的使用壽命和性能。在使用光學器件時，我們應養(yǎng)成定期清洗器件表面的習慣，保持其良好的清潔度，以保證光學器件的比較好使用效果。歡迎來電洽談，我們將為您提供實驗室光清洗機的專業(yè)解決方案！浙江緊密模具UV表面清洗鈦鎳表面清洗是指對鈦鎳合金...

清洗是電子組裝中的一個重要工序，隨著電子產品的組裝密度和復雜性的增加，尤其是在***、航空航天等高可靠性產品的生產中，清洗再次成為焦點，引起了業(yè)界的重視。為了提高電子產品的可靠性和質量，必須嚴格控制PCBA（PrintedCircuitBoardAssembly，印刷電路板組裝）殘留物的存在，必要時必須徹底清洗這些污染物。清洗工藝在生產制造和代工中起著至關重要的作用，需要在理論與實踐中進行探討。過去，人們對于清洗的認識還不夠，主要是因為電子產品的PCBA組裝密度相對較低，認為助焊劑殘留是不會導致導電問題的，因此被認為是無害的，不會影響到電氣性能。然而，如今的電子組裝件趨向于小型化，...

JRVig在1986年提出了紫外線-臭氧清洗技術（UV/O3）。通過實驗發(fā)現(xiàn)，波長為，使有機物分子活化，并分解成離子、游離態(tài)原子和受激分子等。同時，波長為（O2）分解成臭氧（O3）；而波長為（O3）分解成氧氣（O2）和活性氧（O）。這個光敏氧化反應過程是連續(xù)進行的，當這兩種短波紫外光照射下，臭氧會不斷地生成和分解，活性氧原子也會越來越多。由于活性氧原子（O）具有強烈的氧化作用，與活化了的有機物-碳氫化合物等分子發(fā)生氧化反應，產生揮發(fā)性氣體，如CO2、CO、H2O、NO等，這些氣體會從物體表面逸出，從而徹底清洗了粘附在物體表面上的有機污染物。 緊密模具表面清洗是我們的特長項目，讓我們...

UV準分子放電燈，又稱紫外線準分子燈，是利用在紫外線燈管外的高壓、高頻對燈管內的稀有氣體進行轟擊發(fā)出單一的172nm紫外線，光子能量達696KJ/mol，高于絕大多數(shù)有機分子鍵能。利用其單一的**紫外線，可實現(xiàn)很好的半導體、液晶屏制造中的光清洗、光改性，處理效果好，速度快。工作原理：紫外線照射固體表面后，表面的污染物有機分子結合被強的光能切斷、氧化，而后分解成氧氣和氫氣等易揮發(fā)性物質，**終揮發(fā)消失，被清洗后的表面清潔度極高，能把膜狀的油污清洗到單分子層以下，水接觸角可達小于等于1度。紫外線準分子燈波長短，比低氣壓UV放電管具有更快的處理速度和更***的有機物處理對象；波長單一，波長范...