放大率問題:光學鏡頭放大率問題,很多客戶可能對鏡頭放大率不了解或者認識不多,所以造成了對鏡頭使用的錯誤操作或者選購不到合適的鏡頭,因此,普密斯光學針對這一問題進行專業(yè)的講述,希望可以幫助大家更好的理解鏡頭參數(shù)問題。放 大 率 光學放大率影像大小相對于物體的放大...
準分子光刻技術(shù)作為當前主流的光刻技術(shù),主要包括:特征尺寸為0.1μm的248 nm KrF準分子激光技術(shù);特征尺寸為90 nm的193 nm ArF準分子激光技術(shù);特征尺寸為65 nm的193 nm ArF浸沒式技術(shù)(Immersion,193i)。其中193...
視角范圍大,可以涵蓋大范圍景物。所謂視角范圍大,即在同一視點(與被攝物的距離保持不變)用廣角、標準和遠攝三種不同焦距的攝影鏡頭取景,結(jié)果是前者要比后者在上下左右拍攝到更多的景物。當攝影者在沒有退路的情況下,若用50毫米標準鏡頭難以完整拍下的景物(如人物集體留影...
為把193i技術(shù)進一步推進到32和22nm的技術(shù)節(jié)點上,光刻**一直在尋找新的技術(shù),在沒有更好的新光刻技術(shù)出現(xiàn)前,兩次曝光技術(shù)(或者叫兩次成型技術(shù),DPT)成為人們關(guān) 注 的 熱 點。ArF浸沒式兩次曝光技術(shù)已被業(yè)界認為是32nm節(jié)點相當有競爭力的技術(shù);在更低...
四是,鏡頭的焦距越長,相機就必須把握得越穩(wěn)定,以避免影像模糊。經(jīng)驗準則是只有當快門速度至少等于鏡頭焦距毫米數(shù)的倒數(shù)時才能夠手持鏡頭進行拍攝,也稱為“安全快門”。也就是說,當快門速度低于1/100秒時就不能手持100mm鏡頭拍攝,低于1/500秒時就不能手持50...
視角范圍大,可以涵蓋大范圍景物。所謂視角范圍大,即在同一視點(與被攝物的距離保持不變)用廣角、標準和遠攝三種不同焦距的攝影鏡頭取景,結(jié)果是前者要比后者在上下左右拍攝到更多的景物。當攝影者在沒有退路的情況下,若用50毫米標準鏡頭難以完整拍下的景物(如人物集體留影...
德瑞克·約翰·德索拉·普萊斯經(jīng)過前人數(shù)十年為了了解該裝置的研究后,1951年英國科學歷史學家德瑞克·約翰·德索拉·普萊斯對該機械進行了系統(tǒng)性研究。普萊斯以標題“時鐘以前的發(fā)條裝置”(Clockwork before the Clock)和“發(fā)條裝置的由來”(O...
光致抗蝕劑,簡稱光刻膠或抗蝕劑,指光照后能改變抗蝕能力的高分子化合物。光蝕劑分為兩大類。①正性光致抗蝕劑:受光照部分發(fā)生降解反應(yīng)而能為顯影液所溶解。留下的非曝光部分的圖形與掩模版一致。正性抗蝕劑具有分辨率高、對駐波效應(yīng)不敏感、曝光容限大、***密度低和無毒性等...
EUV光刻系統(tǒng)的發(fā)展歷經(jīng)應(yīng)用基礎(chǔ)研究至量產(chǎn)四個階段,其突破得益于多元主體協(xié)同創(chuàng)新和全產(chǎn)業(yè)鏈資源整合 [3]。截至2024年12月,EUV技術(shù)已應(yīng)用于2nm芯片量產(chǎn),但仍需優(yōu)化光源和光刻膠性能。下一代技術(shù)如納米壓印和定向自組裝正在研發(fā)中 [6]。**光刻系統(tǒng)主要...
b、接近式曝光(Proximity Printing)。掩膜板與光刻膠層的略微分開,大約為10~50μm。可以避免與光刻膠直接接觸而引起的掩膜板損傷。但是同時引入了衍射效應(yīng),降低了分辨率。1970后適用,但是其最大分辨率*為2~4μm。c、投影式曝光(Proj...
f/光圈數(shù)和光圈大小調(diào)定在某一f/光圈數(shù)時的任何種類的鏡頭能夠透射過幾乎相同 光量的影象,因為光闌直徑直接與焦距相關(guān),例如,一只80毫米的鏡頭在使用5毫米的光闌直徑時,光圈必定調(diào)節(jié)在f/16上。因此鏡頭的焦距在除以光闌直徑后,就得到相應(yīng)的f/光圈數(shù)。焦距標記調(diào)...
●高剛性高剛性、高精密的構(gòu)架,采用鋼板焊接,并經(jīng)熱處理、消除床身內(nèi)應(yīng)力?!裰匦钠胶?.傳動中心與機器整體的中心趨于一致,確保沖壓的精確、穩(wěn)定。●操作穩(wěn)定、安全離合器/剎車器裝置高度靈敏,再加國際前列的雙聯(lián)電磁閥和過負荷保護裝置,確保沖床滑塊運轉(zhuǎn)及停止的精確性與...
c、水坑(旋覆浸沒)式顯影(Puddle Development)。噴覆足夠(不能太多,**小化背面濕度)的顯影液到硅片表面,并形成水坑形狀(顯影液的流動保持較低,以減少邊緣顯影速率的變化)。硅片固定或慢慢旋轉(zhuǎn)。一般采用多次旋覆顯影液:***次涂覆、保持10~...
長焦距鏡頭適于拍攝距離遠的景物,景深小容易使背景模糊主體突出,但體積笨重且對動態(tài)主體對焦不易。35mm 相機長焦距鏡頭通常分為三級,135mm以下稱中焦距,135-500mm稱長焦距,500mm 以上稱超長焦距。120 相機的150mm的鏡頭相當于35mm相機...
46、墊板墊板是介于固定板(或凹模)與模座間的淬硬板狀零件,用以減低模座承受的單位壓縮應(yīng)力。A.每使用1500-2000小時維護保養(yǎng)應(yīng)執(zhí)行項目:1.滑潤油脂吐出油量及壓力檢知功能測試與調(diào)整.2.空氣系統(tǒng)之濾清器,給油器調(diào)整閥等功能及水份雜質(zhì)測試檢查與必要調(diào)整....
更精確的齒輪齒數(shù)此時也已得知,因此可進一步發(fā)展新的齒輪配置模式。更正確的資訊允許萊特可以確認普萊斯建議的后方面板的上方轉(zhuǎn)盤是顯示235個朔望月,分成五個旋轉(zhuǎn)量度的默冬章。此外,萊特還提出了驚人的看法,他認為儀器后面的上方轉(zhuǎn)盤是每次旋轉(zhuǎn)包含47個部分,總共五個旋...
商用或家用數(shù)碼相機的鏡頭,部分廠家采用了相對比較好的鏡頭。富士相機采用了170線/毫米解析度的專業(yè)富士龍鏡頭,這種內(nèi)置的新型富士龍鏡頭比大多數(shù)SLR鏡頭更清晰。不僅在精度上保證了圖象拍攝的品質(zhì),而且其鏡頭錯誤率也達到令人驚異的0.3%, 較一般的數(shù)碼相機低2/...
介紹04:54新型DUV光刻機公布,套刻精度達8納米!與全球前列設(shè)備差多少?直接分步重復曝光系統(tǒng) (DSW) 超大規(guī)模集成電路需要有高分辨率、高套刻精度和大直徑晶片加工。直接分步重復曝光系統(tǒng)是為適應(yīng)這些相互制約的要求而發(fā)展起來的光學曝光系統(tǒng)。主要技術(shù)特點是:...
安提基特拉機械,是為了計算天體在天空中的位置而設(shè)計的古希臘青銅機器,屬于模擬計算機。該機器于1900年在希臘安提基特拉島附近的安提基特拉沉船里被發(fā)現(xiàn)。制造年代約在西元前150年到100年之間?,F(xiàn)藏于希臘國家考古博物館。 [4]類似的工藝技術(shù)(天文鐘)在歐洲直到...
廣角鏡頭是一種焦距短于標準鏡頭、視角大于標準鏡頭、焦距長于魚眼鏡頭、視角小于魚眼鏡頭的攝影鏡頭。廣角鏡頭又分為普通廣角鏡頭和超廣角鏡頭兩種。普通廣角鏡頭的焦距一般為38-24毫米,視角為60-84度;超廣角鏡頭的焦距為20-13毫米,視角為94-118度。由于...
●加工自動化可搭配任何的自動送料機構(gòu),進行自動化生產(chǎn)、降低成本,提高效率?!癍h(huán)保、節(jié)能且外形美觀,低噪音、低消耗、節(jié)省能源,流暢簡潔的外觀更能體現(xiàn)出先進的設(shè)計理念。1.上模上模是整副沖模的上半部,即安裝于壓力機滑塊上的沖模部分。2、上模座上模座是上模**上面的...
世界上***部糾偏裝置,英文:Deviation rectifying device,是美塞斯的FIFE糾發(fā)明的,是糾偏裝置是電子糾偏系統(tǒng)的心臟。糾偏裝置是一種修正卷材在向前運動中出現(xiàn)的側(cè)邊誤差的機械裝置,位移式糾偏是通過更改卷材在進口和出口跨度來實現(xiàn)卷材側(cè)邊...
兩種工藝常規(guī)光刻技術(shù)是采用波長為2000~4500埃的紫外光作為圖像信息載體,以光致抗蝕劑為中間(圖像記錄)媒介實現(xiàn)圖形的變換、轉(zhuǎn)移和處理,**終把圖像信息傳遞到晶片(主要指硅片)或介質(zhì)層上的一種工藝。在廣義上,它包括光復印和刻蝕工藝兩個主要方面。①光復印工藝...
商用或家用數(shù)碼相機的鏡頭,部分廠家采用了相對比較好的鏡頭。富士相機采用了170線/毫米解析度的專業(yè)富士龍鏡頭,這種內(nèi)置的新型富士龍鏡頭比大多數(shù)SLR鏡頭更清晰。不僅在精度上保證了圖象拍攝的品質(zhì),而且其鏡頭錯誤率也達到令人驚異的0.3%, 較一般的數(shù)碼相機低2/...
自動精密沖床是一種用于金屬沖壓成型的工業(yè)設(shè)備,主要應(yīng)用于汽車、電子、五金制造等領(lǐng)域,可適配自動化送料系統(tǒng)實現(xiàn)高效生產(chǎn)。其機身采用鋼板焊接結(jié)構(gòu)并經(jīng)過熱處理,具有高剛性和穩(wěn)定性。設(shè)備**部件包含曲軸、齒輪軸等硬化研磨組件,結(jié)合重心平衡設(shè)計保障沖壓精度。配置雙聯(lián)電磁...
英特爾高級研究員兼技術(shù)和制造部先進光刻技術(shù)總監(jiān)YanBorodovsky在去年說過“針對未來的IC設(shè)計,我認為正確的方向是具有互補性的光刻技術(shù)。193納米光刻是當前能力**強且**成熟的技術(shù),能夠滿足精確度和成本要求,但缺點是分辨率低。利用一種新技術(shù)作為193...
● 儀表盤面為MPa刻度值直接讀取● 精度等級0.25% 0.4%● 雙層鏡面表盤● 設(shè)有度盤調(diào)零裝置● 鐵噴塑表殼● 銅合金內(nèi)機部件● 測量范圍-0.1至60MPa 外型尺寸示意圖精密壓力表的測量范圍分類:1.微壓表(指儀表測量上限值小于0.1MPa的儀表)...
在曝光過程中,需要對不同的參數(shù)和可能缺陷進行跟蹤和控制,會用到檢測控制芯片/控片(Monitor Chip)。根據(jù)不同的檢測控制對象,可以分為以下幾種:a、顆粒控片(Particle MC):用于芯片上微小顆粒的監(jiān)控,使用前其顆粒數(shù)應(yīng)小于10顆;b、卡盤顆粒控...
自動精密沖床是一種用于金屬沖壓成型的工業(yè)設(shè)備,主要應(yīng)用于汽車、電子、五金制造等領(lǐng)域,可適配自動化送料系統(tǒng)實現(xiàn)高效生產(chǎn)。其機身采用鋼板焊接結(jié)構(gòu)并經(jīng)過熱處理,具有高剛性和穩(wěn)定性。設(shè)備**部件包含曲軸、齒輪軸等硬化研磨組件,結(jié)合重心平衡設(shè)計保障沖壓精度。配置雙聯(lián)電磁...
對于新影像的進一步研究促使萊特提出新看法。首先他將普萊斯的模式進一步發(fā)展,認為該儀器相當于一個天象儀。萊特的天象儀不只可模擬日月運動,還可顯示內(nèi)側(cè)行星(水星和金星)和外側(cè)行星(火星、木星和土星)的運動。萊特提出該機械的日月運動是基于喜帕恰斯的理論,五顆古典行星...