徐州碳化硅晶圓切割刀片

來源: 發(fā)布時間:2025-10-10

晶圓切割的主要目標之一是從每片晶圓中獲得高產量的、功能完整且無損的芯片。產量是半導體制造中的一個關鍵性能指標,因為它直接影響電子器件生產的成本和效率。更高的產量意味著每個芯片的成本更造能力更大,制造商更能滿足不斷增長的電子器件需求。晶圓切割直接影響到包含這些分離芯片的電子器件的整體性能。切割過程的精度和準確性需要確保每個芯片按照設計規(guī)格分離,尺寸和對準的變化小。這種精度對于在終設備中實現比較好電氣性能、熱管理和機械穩(wěn)定性至關重要。中清航科提供切割工藝認證服務,助客戶通過車規(guī)級標準。徐州碳化硅晶圓切割刀片

徐州碳化硅晶圓切割刀片,晶圓切割

8英寸晶圓在功率半導體、MEMS等領域仍占據重要市場份額,中清航科針對這類成熟制程開發(fā)的切割設備,兼顧效率與性價比。設備采用雙主軸并行切割設計,每小時可加工40片8英寸晶圓,且通過優(yōu)化機械結構降低振動噪聲至65分貝以下,為車間創(chuàng)造更友好的工作環(huán)境,深受中小半導體企業(yè)的青睞。晶圓切割工藝的數字化轉型是智能制造的重要組成部分。中清航科的切割設備內置工業(yè)物聯網模塊,可實時采集切割壓力、溫度、速度等100余項工藝參數,通過邊緣計算節(jié)點進行實時分析,生成工藝優(yōu)化建議。客戶可通過云端平臺查看生產報表與趨勢分析,實現基于數據的精細化管理。紹興12英寸半導體晶圓切割測試中清航科切割道檢測儀實時反饋數據,動態(tài)調整切割參數。

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半導體制造對潔凈度要求嚴苛,晶圓切割環(huán)節(jié)的微塵污染可能導致芯片失效。中清航科的切割設備采用全封閉防塵結構與高效HEPA過濾系統(tǒng),工作區(qū)域潔凈度達到Class1標準,同時配備激光誘導等離子體除塵裝置,實時清理切割產生的微米級顆粒,使產品不良率降低至0.1%以下。在成本控制成為半導體企業(yè)核心競爭力的現在,中清航科通過技術創(chuàng)新實現切割耗材的大幅節(jié)約。其自主研發(fā)的金剛石切割刀片,使用壽命較行業(yè)平均水平延長50%,且通過刀片磨損實時監(jiān)測與自動補償技術,減少頻繁更換帶來的停機損失,幫助客戶降低20%的耗材成本,在激烈的市場競爭中構筑成本優(yōu)勢。

中清航科注重與科研機構的合作創(chuàng)新,與國內多所高校共建半導體切割技術聯合實驗室。圍繞晶圓切割的前沿技術開展研究,如原子層切割、超高頻激光切割等,已申請發(fā)明專利50余項,其中“一種基于飛秒激光的晶圓超精細切割方法”獲得國家發(fā)明專利金獎,推動行業(yè)技術進步。晶圓切割設備的軟件系統(tǒng)是其智能化的中心,中清航科自主開發(fā)了切割控制軟件,具備友好的人機交互界面與強大的功能。支持多種格式的晶圓版圖文件導入,可自動生成切割路徑,同時提供離線編程功能,可在不影響設備運行的情況下完成新程序的編制與模擬,提高設備利用率。8小時連續(xù)切割驗證:中清航科設備溫度波動≤±0.5℃。

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隨著芯片輕薄化趨勢,中清航科DBG(先切割后研磨)與SDBG(半切割后研磨)設備采用漸進式壓力控制技術,切割階段只切入晶圓1/3厚度,經背面研磨后自動分離。該方案將100μm以下晶圓碎片率降至0.01%,已應用于5G射頻模塊量產線。冷卻液純度直接影響切割良率。中清航科納米級過濾系統(tǒng)可去除99.99%的0.1μm顆粒,配合自主研發(fā)的抗靜電添加劑,減少硅屑附著造成的短路風險。智能溫控模塊維持液體粘度穩(wěn)定,延長刀片壽命200小時以上呢。復合材料晶圓切割選中清航科多工藝集成設備,兼容激光與刀片。南通碳化硅晶圓切割劃片

針對碳化硅晶圓,中清航科激光改質切割技術突破硬度限制。徐州碳化硅晶圓切割刀片

在晶圓切割的批量一致性控制方面,中清航科采用統(tǒng)計過程控制(SPC)技術。設備實時采集每片晶圓的切割尺寸數據,通過SPC軟件進行分析,繪制控制圖,及時發(fā)現過程中的異常波動,并自動調整相關參數,使切割尺寸的標準差控制在1μm以內,確保批量產品的一致性。針對薄晶圓切割后的搬運難題,中清航科開發(fā)了無損搬運系統(tǒng)。采用特制的真空吸盤與輕柔的取放機構,配合視覺引導,實現薄晶圓的平穩(wěn)搬運,避免搬運過程中的彎曲與破損。該系統(tǒng)可集成到切割設備中,也可作為單獨模塊與其他設備對接,提高薄晶圓的處理能力。徐州碳化硅晶圓切割刀片