華升納米的真空鍍膜機在技術創(chuàng)新方面有哪些突破？

廣東華升納米科技股份有限公司2025-10-28

華升納米始終將技術創(chuàng)新視為企業(yè)發(fā)展的驅(qū)動力。在真空鍍膜機領域，公司不斷優(yōu)化設備結(jié)構(gòu)與工藝控制算法，率先實現(xiàn)了高離化磁控濺射（HiPIMS）和電弧結(jié)合的一體陰極技術，實現(xiàn)更高沉積速率與更致密的薄膜性能。此外，華升納米新款電弧設備通過自主研發(fā)的智能監(jiān)控系統(tǒng)，可實時監(jiān)測鍍膜參數(shù)，確保涂層均勻性與可重復性。公司還在涂層材料方面積極探索，如DLC類、TiAlN類及多層復合膜的創(chuàng)新應用，為不同行業(yè)提供定制化解決方案。這些技術突破不提升了設備的綜合性能，也讓華升納米在國內(nèi)外鍍膜設備制造領域保持地位。

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