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化學(xué)鍍鎳MNP工藝中,A劑和C劑為何要按1:1補加?

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江蘇夢得新材料科技有限公司2025-11-04

在MNP體系中,A劑 通常是鎳鹽和還原劑(次磷酸鈉)的混合物,提供反應(yīng)的“原料”。C劑 則包含絡(luò)合劑、穩(wěn)定劑和pH緩沖組分,維持鍍液穩(wěn)定和反應(yīng)速率。按1:1補加是為了維持鍍液中鎳離子/還原劑濃度與穩(wěn)定劑/絡(luò)合劑濃度之間的化學(xué)計量平衡。如果只補加A劑,會導(dǎo)致:1) 游離鎳離子濃度過高,反應(yīng)過快,鍍液不穩(wěn)定,易分解。2) 絡(luò)合劑不足,鎳鹽可能局部沉淀。3) pH緩沖能力下降,施鍍過程pH波動大,影響鍍層質(zhì)量和沉積速率。**終可能導(dǎo)致鍍液“爆析”(瞬間分解失效)。

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簡介:江蘇夢得新材料科技有限公司成立于1996年,專注于電化學(xué)、新能源和生物化學(xué)等領(lǐng)域的研發(fā)與生產(chǎn)。
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