技術(shù)領(lǐng)域：本發(fā)明涉及一種選擇性剝離光刻膠制備微納結(jié)構(gòu)的方法，可用于微納制造，光學(xué)領(lǐng)域，電學(xué)，生物領(lǐng)域，mems領(lǐng)域，nems領(lǐng)域。技術(shù)背景：微納制造技術(shù)是衡量一個(gè)國(guó)家制造水平的重要標(biāo)志，對(duì)提高人們的生活水平，促進(jìn)產(chǎn)業(yè)發(fā)展與經(jīng)濟(jì)增長(zhǎng)，保障**安全等方法發(fā)揮著重要作用，微納制造技術(shù)是微傳感器、微執(zhí)行器、微結(jié)構(gòu)和功能微納系統(tǒng)制造的基本手段和重要基礎(chǔ)。基于半導(dǎo)體制造工藝的光刻技術(shù)是**常用的手段之一。對(duì)于納米孔的加工，常用的手段是先利用曝光負(fù)性光刻膠并顯影后得到微納尺度的柱狀結(jié)構(gòu)，再通過(guò)金屬的沉積和溶膠實(shí)現(xiàn)圖形反轉(zhuǎn)從而得到所需要的納米孔。然而傳統(tǒng)的方法由于光刻過(guò)程中的散焦及臨近效應(yīng)等會(huì)造成曝光后的微納...

本發(fā)明下述示例性實(shí)施例可以多種不同的形式來(lái)實(shí)施，并且不應(yīng)當(dāng)被解釋為只限于這里所闡述的具體實(shí)施例。應(yīng)當(dāng)理解的是，提供這些實(shí)施例是為了使得本發(fā)明的公開(kāi)徹底且完整，并且將這些示例性具體實(shí)施例的技術(shù)方案充分傳達(dá)給本領(lǐng)域技術(shù)人員。如圖1所示，本發(fā)明提供的光刻膠剝離去除方法主要實(shí)施例，用于半導(dǎo)體制造工藝中，可應(yīng)用于包括但不限于mos、finfet等所有現(xiàn)有技術(shù)中涉及光刻膠剝離去除的生產(chǎn)步驟，主要包括以下步驟:s1，在半導(dǎo)體襯底上淀積介質(zhì)層；s2，旋涂光刻膠并曝光顯影，形成光刻圖形阻擋層；s3，執(zhí)行離子注入：s4，采用氮?dú)浠旌蠚怏w執(zhí)行等離子刻蝕，對(duì)光刻膠進(jìn)行干法剝離；s5，對(duì)襯底表面進(jìn)行清洗。本發(fā)明刻膠剝離...

若所述過(guò)濾器被所述薄膜碎屑阻塞，則關(guān)閉連接被阻塞的所述過(guò)濾器的管道上的閥門(mén)開(kāi)關(guān)；取出被阻塞的所述過(guò)濾器。在一些實(shí)施例中，所述若所述過(guò)濾器被所述薄膜碎屑阻塞，則關(guān)閉連接被阻塞的所述過(guò)濾器的管道上的閥門(mén)開(kāi)關(guān)包括：若所述過(guò)濾器包括多個(gè)并列排布的子過(guò)濾器，則關(guān)閉連接被阻塞的所述子過(guò)濾器的管道上的閥門(mén)開(kāi)關(guān)。本申請(qǐng)實(shí)施例還提供一種剝離液機(jī)臺(tái)，包括：依次順序排列的多級(jí)腔室、每一級(jí)所述腔室對(duì)應(yīng)連接一存儲(chǔ)箱；過(guò)濾器，所述過(guò)濾器的一端設(shè)置通過(guò)管道與當(dāng)前級(jí)腔室對(duì)應(yīng)的存儲(chǔ)箱連接，所述過(guò)濾器的另一端通過(guò)第二管道與下一級(jí)腔室連接；其中，至少在所述管道或所述第二管道上設(shè)置有閥門(mén)開(kāi)關(guān)開(kāi)關(guān)。通過(guò)閥門(mén)開(kāi)關(guān)控制連接每一級(jí)腔室的過(guò)濾...

所述功能切換口3外部并聯(lián)有高純水輸入管線1和沉淀劑輸入管線2。所述二級(jí)過(guò)濾罐13的底部設(shè)有廢液出口20。所述一級(jí)過(guò)濾罐16和二級(jí)過(guò)濾罐13內(nèi)部均懸設(shè)有攔截固體成分的過(guò)濾筒。本實(shí)施例中，所述一級(jí)過(guò)濾罐16和二級(jí)過(guò)濾罐13的結(jié)構(gòu)相同，以一級(jí)過(guò)濾罐16為例，由外殼1601、懸設(shè)于外殼1601內(nèi)的過(guò)濾筒、扣裝于過(guò)濾筒頂部的壓蓋1602組成。所述壓蓋1602中心設(shè)有對(duì)應(yīng)進(jìn)料管路15的通孔。所述過(guò)濾筒由均勻布設(shè)多孔1606的支撐筒體1605、設(shè)于支撐筒體1605內(nèi)表面的金屬濾網(wǎng)1604、設(shè)于金屬濾網(wǎng)1604表面的纖維濾布1603組成。所述支撐筒體1605的上沿伸出外殼1601頂部并利用水平翻邊支撐于外殼1...

在生產(chǎn)方面，剝離液的純度對(duì)于應(yīng)用領(lǐng)域有所限制，高純度剝離液生產(chǎn)工藝復(fù)雜，且對(duì)于生產(chǎn)設(shè)備、生產(chǎn)環(huán)境控制均有較高的要求，整體技術(shù)門(mén)檻較高。在資金方面，為取得競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)，剝離液生產(chǎn)企業(yè)需要在研發(fā)、技術(shù)、設(shè)備方面投入大量資金，因此為實(shí)現(xiàn)剝離液產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)所需的資金門(mén)檻相對(duì)較高。新思界產(chǎn)業(yè)分析人士表示，剝離液作為半導(dǎo)體制造的關(guān)鍵性濕電子化學(xué)品，在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)快速發(fā)展背景下，剝離液市場(chǎng)需求攀升。就總體來(lái)看，剝離液雖然是一種關(guān)鍵化工原料，但由于需求量較少，因此市場(chǎng)規(guī)模偏小，生產(chǎn)企業(yè)由大型濕電子化學(xué)品主導(dǎo)，新進(jìn)入企業(yè)難以尋求發(fā)展機(jī)遇。高效剝離液，讓光刻膠去除更輕松、更徹底。無(wú)錫配方剝離液報(bào)價(jià)所述過(guò)濾器包括多個(gè)并列排...

IC去除剝離液MSDS1.產(chǎn)品屬性產(chǎn)品形式：混合溶液產(chǎn)品名稱：ANS-908產(chǎn)品功能描述：用于COG重工，使IC與玻璃無(wú)損傷分離2.組成成份化學(xué)名稱CASNo含量%(v)1-METHYL-2-PYRROLIDINONE872-50-445~90N,N-DIMETHYLACETAMIDE127-19-510~58Other12~45SurfactantThickener3.危險(xiǎn)識(shí)別可燃性液體和蒸汽警示標(biāo)識(shí)外觀：透明或微黃氣味：類(lèi)氨對(duì)人類(lèi)和環(huán)境的危害：對(duì)眼睛和皮膚有刺激性吸入：會(huì)引起呼吸道受刺激，肝臟、腎受傷害，對(duì)系統(tǒng)有影響攝?。簳?huì)引起呼吸道和消化道刺激長(zhǎng)期接觸：會(huì)引起皮膚傷害4.緊急處理吸入：移...

高世代面板)表面上，或透入其表面，而把固體物料潤(rùn)濕，剝離液親水性良好，能快速高效地剝離溶解光刻膠。因此，本申請(qǐng)中的高世代面板銅制程光刻膠剝離液由酰胺、醇醚、環(huán)胺與鏈胺、緩蝕劑、潤(rùn)濕劑組成。其中，酰胺可以為n-甲基甲酰胺、n-甲基乙酰胺、n，n-二甲基甲酰胺中的任意一種或多種，酰胺是用于溶解光刻膠；n-甲基甲酰胺下面簡(jiǎn)稱″nmf″醇醚為二乙二醇丁醚、二乙二醇甲醚、乙二醇甲醚、乙二醇乙醚中的任意一種或多種，醇醚是用于潤(rùn)濕、膨潤(rùn)、溶解光刻膠的；二乙二醇丁醚下面簡(jiǎn)稱″bdg″。環(huán)胺與鏈胺，用于滲透、斷開(kāi)光刻膠分子間弱結(jié)合力；鏈胺：分子量的大小決定瞬間溶解力，分子量過(guò)大瞬間溶解力小，光刻膠未被完全溶解；...

利用提升泵將一級(jí)過(guò)濾罐中濾液抽取到攪拌釜內(nèi)；再向攪拌釜中輸入沉淀劑，如酸性溶液，與前述濾液充分?jǐn)嚢杌旌显俅挝龀龀恋砦铮炊?jí)線性酚醛樹(shù)脂，打開(kāi)二級(jí)過(guò)濾罐進(jìn)料管路上的電磁閥，帶有沉淀物的混合液進(jìn)入二級(jí)過(guò)濾罐中，由其中的過(guò)濾筒過(guò)濾得到二級(jí)線性酚醛樹(shù)脂，廢液二級(jí)過(guò)濾罐底部的廢液出口流出，送往剝離成分處理系統(tǒng)。上述過(guò)濾得到的一級(jí)線性酚醛樹(shù)脂可用于光刻膠產(chǎn)品的原料，而二級(jí)線性酚醛樹(shù)脂可用于其他場(chǎng)合。綜上，實(shí)現(xiàn)了對(duì)光刻膠樹(shù)脂的充分的回收利用，回收率得到提高。附圖說(shuō)明圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是過(guò)濾筒的結(jié)構(gòu)示意圖。具體實(shí)施方式如圖1、圖2所示，該光刻膠廢剝離液回收裝置，包括攪拌釜10和與攪拌釜10連...

砷化鎵也有容易被腐蝕的特點(diǎn)，比如堿性的氨水、酸性的鹽酸、硫酸、硝酸等。去膠，也成為光刻膠的剝離。即完成光刻鍍膜等處理之后，需要去除光刻膠之后進(jìn)行下一步。有時(shí)直接采用+異丙醇的方式就可以去除。但是對(duì)于等離子體處理過(guò)的光刻膠，一般就比較難去除干凈。有的人把加熱到60℃，雖然去膠效果快了一些，但是沸點(diǎn)是60℃，揮發(fā)的特別快，而且**蒸汽也有易燃的風(fēng)險(xiǎn)，因此找一款去膠效果好的光刻膠剝離液十分有必要。介紹常見(jiàn)的一款剝離液，該剝離液去膠效果好，但是對(duì)砷化鎵有輕微腐蝕，不易長(zhǎng)時(shí)間浸泡。工藝參數(shù)因產(chǎn)品和光刻膠的種類(lèi)而不同，但基本上都要加熱。剝離液公司的聯(lián)系方式。蘇州什么剝離液訂做價(jià)格本發(fā)明采用一種選擇性剝離制...

本實(shí)用新型涉及光刻膠生產(chǎn)設(shè)備，具體是一種光刻膠廢剝離液回收裝置。背景技術(shù)：光刻膠是微電子技術(shù)中微細(xì)圖形加工的關(guān)鍵材料之一，其是由溶劑、感光樹(shù)脂、光引發(fā)劑和添加劑四種成分組成的對(duì)光敏感的混合液體。在紫外光、深紫外光、電子束、離子束等光照或輻射下，進(jìn)行光化學(xué)反應(yīng)，經(jīng)曝光、顯影等過(guò)程，將所需要的微細(xì)圖形從掩模版轉(zhuǎn)移至待加工的襯底上，然后進(jìn)行蝕刻等工藝加工，終得到所需圖像。其中，溶劑使光刻膠具有流動(dòng)性，易揮發(fā)，對(duì)于光刻膠的化學(xué)性質(zhì)幾乎沒(méi)有影響。感光樹(shù)脂是惰性的聚合物，用于把光刻膠中的不同材料聚在一起的粘合劑，給予光刻膠其機(jī)械和化學(xué)性質(zhì)。光引發(fā)劑是光刻膠中的光敏成分，對(duì)光能發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)。添加劑是控制光...

1.顯影液：顯影液是一種溶液，用于在PCB板上顯示銅線軌道的比例和位置，使其成為可以用于焊接元件的良好的PCB板。2.剝離液：剝離液是一種特殊的溶劑，用于將PCB板上的銅線軌道剝離開(kāi)，以便重新焊接元件。3.蝕刻液：蝕刻液是一種酸性溶液，用于將PCB板上的銅線軌道腐蝕掉，以便重新焊接元件。4.清洗液：清洗液是一種混合物，用于將PCB板上的塵埃、污垢和其他殘留物消除干凈，以便進(jìn)行焊接和裝配。1.顯影液：是指用于顯影制版的液體，一般由溶劑、硫酸銅、有機(jī)酸和抗氧化劑等組成。2.剝離液：是指用于把制版上的顯影膜剝離出來(lái)的液體，一般由硝酸鋁、硫酸鈉等組成。3.蝕刻液：是指用于蝕刻制版的液體，一般由硝酸銅、...

本發(fā)明涉及剝離液技術(shù)領(lǐng)域：，更具體的說(shuō)是涉及一種高世代面板銅制程光刻膠剝離液。背景技術(shù)：：電子行業(yè)飛速發(fā)展，光刻膠應(yīng)用也越來(lái)越。在半導(dǎo)體元器件制造過(guò)程中，經(jīng)過(guò)涂敷-顯影-蝕刻過(guò)程，在底層金屬材料上蝕刻出所需線條之后，必須在除去殘余光刻膠的同時(shí)不能損傷任何基材，才能再進(jìn)行下道工序。因此，光刻膠的剝離質(zhì)量也有直接影響著產(chǎn)品的質(zhì)量。但是傳統(tǒng)光刻膠剝離液雖然能剝離絕大部分光阻，但對(duì)于高世代面板(高世代面板是代指大尺寸的液晶面板)，傳統(tǒng)剝離液親水性不夠，水置換能力較差，容易造成面板邊緣光刻膠殘留。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：本發(fā)明的目的是提供一種高世代面板銅制程光刻膠剝離液。為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案：...

高世代面板)表面上，或透入其表面，而把固體物料潤(rùn)濕，剝離液親水性良好，能快速高效地剝離溶解光刻膠。因此，本申請(qǐng)中的高世代面板銅制程光刻膠剝離液由酰胺、醇醚、環(huán)胺與鏈胺、緩蝕劑、潤(rùn)濕劑組成。其中，酰胺可以為n-甲基甲酰胺、n-甲基乙酰胺、n，n-二甲基甲酰胺中的任意一種或多種，酰胺是用于溶解光刻膠；n-甲基甲酰胺下面簡(jiǎn)稱″nmf″醇醚為二乙二醇丁醚、二乙二醇甲醚、乙二醇甲醚、乙二醇乙醚中的任意一種或多種，醇醚是用于潤(rùn)濕、膨潤(rùn)、溶解光刻膠的；二乙二醇丁醚下面簡(jiǎn)稱″bdg″。環(huán)胺與鏈胺，用于滲透、斷開(kāi)光刻膠分子間弱結(jié)合力；鏈胺：分子量的大小決定瞬間溶解力，分子量過(guò)大瞬間溶解力小，光刻膠未被完全溶解；...

形成帶有沉淀物的固液混合物，打開(kāi)一級(jí)過(guò)濾罐進(jìn)料管路上的電磁閥18，固液混合物進(jìn)入一級(jí)過(guò)濾罐16的過(guò)濾筒中，先由一級(jí)過(guò)濾罐16的過(guò)濾筒過(guò)濾得到一級(jí)線性酚醛樹(shù)脂，濾液由提升泵6送往攪拌釜的循環(huán)料口7，往復(fù)3次數(shù)后，一級(jí)線性酚醛樹(shù)脂回收完成，關(guān)閉一級(jí)過(guò)濾罐進(jìn)料管路上的電磁閥18，利用提升泵6將一級(jí)過(guò)濾罐16中濾液抽取到攪拌釜10內(nèi)備用；2、向攪拌釜10中輸入酸性溶液，與前述濾液充分?jǐn)嚢杌旌显俅挝龀龀恋砦铮炊?jí)線性酚醛樹(shù)脂，利用ph計(jì)檢測(cè)溶液ph值，當(dāng)達(dá)到5-7范圍內(nèi)即可，打開(kāi)二級(jí)過(guò)濾罐13進(jìn)料管路上的電磁閥17，帶有沉淀物的混合液進(jìn)入二級(jí)過(guò)濾罐13中，由其中的過(guò)濾筒過(guò)濾得到二級(jí)線性酚醛樹(shù)脂，廢液二...

在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖1為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的剝離液機(jī)臺(tái)的種結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的剝離液機(jī)臺(tái)的第二種結(jié)構(gòu)示意圖。圖3為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的剝離液機(jī)臺(tái)的第三種結(jié)構(gòu)示意圖。圖4為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的剝離液機(jī)臺(tái)的第四種結(jié)構(gòu)示意圖。圖5為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的剝離液機(jī)臺(tái)的工作方法的流程示意圖。具體實(shí)施方式目前剝離液機(jī)臺(tái)在工作時(shí)，如果過(guò)濾剝離光阻時(shí)產(chǎn)生的薄膜碎屑的過(guò)濾器被阻塞，則需要?jiǎng)冸x液機(jī)臺(tái)內(nèi)的所有工作單元，待被阻塞的過(guò)濾器被清理后，才能重新進(jìn)行剝離制程，使得機(jī)臺(tái)需頻繁停線以更換過(guò)濾器，極大的降低了生產(chǎn)效率。請(qǐng)參閱圖1，圖1為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的過(guò)濾液機(jī)臺(tái)1...

從而可以在閥門(mén)開(kāi)關(guān)60關(guān)閉后取下被阻塞的過(guò)濾器30進(jìn)行清理并不會(huì)導(dǎo)致之后的下一級(jí)腔室102的剝離進(jìn)程無(wú)法繼續(xù)。其中，腔室10用于按照處于剝離制程的玻璃基板的傳送方向逐級(jí)向玻璃基板分別提供剝離液；與多個(gè)腔室10分別對(duì)應(yīng)連接的多個(gè)存儲(chǔ)箱20，各級(jí)腔室10分別通過(guò)管道與相應(yīng)的存儲(chǔ)箱20連接，存儲(chǔ)箱20用于收集和存儲(chǔ)來(lái)自當(dāng)前級(jí)腔室101的經(jīng)歷剝離制程的剝離液；過(guò)濾器30用于過(guò)濾來(lái)自當(dāng)前級(jí)腔室101的存儲(chǔ)箱20的剝離液，并且過(guò)濾器30還可以通過(guò)管道與下一級(jí)腔室102連接，從而過(guò)濾器30可以將過(guò)濾后的剝離液輸送給下一級(jí)腔室102。各腔室10設(shè)計(jì)為適合進(jìn)行剝離制程，用于向制程中的玻璃基板供給剝離液，具體結(jié)構(gòu)...

可選擇的，旋涂光刻膠厚度范圍為1000?！?0000埃。s3，執(zhí)行離子注入：可選擇的，離子注入劑量范圍為1×1013cm-2～1×1016cm-2。s4，采用氮?dú)浠旌蠚怏w執(zhí)行等離子刻蝕，對(duì)光刻膠進(jìn)行干法剝離；如背景技術(shù)中所述，經(jīng)過(guò)高劑量或大分子量的源種注入后，會(huì)在光刻膠的外層形成一層硬殼即為主要光刻膠層，主要光刻膠層包裹在第二光刻膠層外。使氮?dú)浠旌蠚怏w與光刻膠反應(yīng)生成含氨揮發(fā)性化合物氣體，反應(yīng)速率平穩(wěn)，等離子體氮?dú)浠旌蠚怏w與主要光刻膠層、第二光刻膠層的反應(yīng)速率相等。等離子體氮?dú)浠旌蠚怏w先剝離去除主要光刻膠層，參考圖8所示。再逐步剝離去除第二光刻膠層，參考圖9和圖10所示。可選的，等離子刻蝕氣體...

按照玻璃基板傳送方向從當(dāng)前腔室101開(kāi)始逐級(jí)由各腔室10向玻璃基板供給剝離液以進(jìn)行剝離制程。剝離液從當(dāng)前腔室101進(jìn)入相應(yīng)的存儲(chǔ)箱20，在剝離液的水平面超過(guò)預(yù)設(shè)高度后流入過(guò)濾器30，再經(jīng)過(guò)過(guò)濾器30的過(guò)濾將過(guò)濾后的剝離液傳送至下一級(jí)腔室102內(nèi)。其中，薄膜碎屑70一般為金屬碎屑或ito碎屑。其中，如圖2所示，圖2為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的剝離液機(jī)臺(tái)100的第二種結(jié)構(gòu)示意圖。閥門(mén)開(kāi)關(guān)60設(shè)置在管道40及第二管道50上。在過(guò)濾器30被阻塞時(shí)，關(guān)閉位于過(guò)濾器30兩側(cè)的管道40及第二管道50上的閥門(mén)開(kāi)關(guān)60，可以保證當(dāng)前級(jí)腔室101對(duì)應(yīng)的存儲(chǔ)箱20內(nèi)剝離液不會(huì)流出，同時(shí)下一級(jí)腔室102內(nèi)的剝離液也不會(huì)流出。...

IC去除剝離液MSDS1.產(chǎn)品屬性產(chǎn)品形式：混合溶液產(chǎn)品名稱：ANS-908產(chǎn)品功能描述：用于COG重工，使IC與玻璃無(wú)損傷分離2.組成成份化學(xué)名稱CASNo含量%(v)1-METHYL-2-PYRROLIDINONE872-50-445~90N,N-DIMETHYLACETAMIDE127-19-510~58Other12~45SurfactantThickener3.危險(xiǎn)識(shí)別可燃性液體和蒸汽警示標(biāo)識(shí)外觀：透明或微黃氣味：類(lèi)氨對(duì)人類(lèi)和環(huán)境的危害：對(duì)眼睛和皮膚有刺激性吸入：會(huì)引起呼吸道受刺激，肝臟、腎受傷害，對(duì)系統(tǒng)有影響攝?。簳?huì)引起呼吸道和消化道刺激長(zhǎng)期接觸：會(huì)引起皮膚傷害4.緊急處理吸入：移...

可選擇的，旋涂光刻膠厚度范圍為1000埃～10000埃。s3，執(zhí)行離子注入：可選擇的，離子注入劑量范圍為1×1013cm-2～1×1016cm-2。s4，采用氮?dú)浠旌蠚怏w執(zhí)行等離子刻蝕，對(duì)光刻膠進(jìn)行干法剝離；如背景技術(shù)中所述，經(jīng)過(guò)高劑量或大分子量的源種注入后，會(huì)在光刻膠的外層形成一層硬殼即為主要光刻膠層，主要光刻膠層包裹在第二光刻膠層外。使氮?dú)浠旌蠚怏w與光刻膠反應(yīng)生成含氨揮發(fā)性化合物氣體，反應(yīng)速率平穩(wěn)，等離子體氮?dú)浠旌蠚怏w與主要光刻膠層、第二光刻膠層的反應(yīng)速率相等。等離子體氮?dú)浠旌蠚怏w先剝離去除主要光刻膠層，參考圖8所示。再逐步剝離去除第二光刻膠層，參考圖9和圖10所示。可選的，等離子刻蝕氣體...

可選擇的，旋涂光刻膠厚度范圍為1000?！?0000埃。s3，執(zhí)行離子注入：可選擇的，離子注入劑量范圍為1×1013cm-2～1×1016cm-2。s4，采用氮?dú)浠旌蠚怏w執(zhí)行等離子刻蝕，對(duì)光刻膠進(jìn)行干法剝離；如背景技術(shù)中所述，經(jīng)過(guò)高劑量或大分子量的源種注入后，會(huì)在光刻膠的外層形成一層硬殼即為主要光刻膠層，主要光刻膠層包裹在第二光刻膠層外。使氮?dú)浠旌蠚怏w與光刻膠反應(yīng)生成含氨揮發(fā)性化合物氣體，反應(yīng)速率平穩(wěn)，等離子體氮?dú)浠旌蠚怏w與主要光刻膠層、第二光刻膠層的反應(yīng)速率相等。等離子體氮?dú)浠旌蠚怏w先剝離去除主要光刻膠層，參考圖8所示。再逐步剝離去除第二光刻膠層，參考圖9和圖10所示?？蛇x的，等離子刻蝕氣體...

濕電子化學(xué)品位于電子信息產(chǎn)業(yè)偏中上游的材料領(lǐng)域。濕電子化學(xué)品上游是基礎(chǔ)化工產(chǎn)品，下游是電子信息產(chǎn)業(yè)（信息通訊、消費(fèi)電子、家用電器、汽車(chē)電子、LED、平板顯示、太陽(yáng)能電池、**等領(lǐng)域）。濕電子化學(xué)品的生產(chǎn)工藝主要采用物理的提純技術(shù)及混配技術(shù)，將工業(yè)級(jí)的化工原料提純?yōu)槌瑑舾呒兓瘜W(xué)試劑，并按照特定的配方混配為具有特定功能性的化學(xué)試劑。濕電子化學(xué)品行業(yè)是精細(xì)化工和電子信息行業(yè)交叉的領(lǐng)域，其行業(yè)特色充分融入了兩大行業(yè)的自身特點(diǎn)，具有品種多、質(zhì)量要求高、對(duì)環(huán)境潔凈度要求苛刻、產(chǎn)品更新?lián)Q代快、產(chǎn)品附加值高、資金投入量大等特點(diǎn)，是化工領(lǐng)域相當(dāng)有發(fā)展前景的領(lǐng)域之一。剝離液中加入特有添加劑可有效保護(hù)對(duì)應(yīng)金屬；池州...

閥門(mén)開(kāi)關(guān)60設(shè)置在每一子管道301上。在一些實(shí)施例中，閥門(mén)開(kāi)關(guān)60設(shè)置在每一子管道401及每一所述第二子管道502上。在一些實(shí)施例中，閥門(mén)開(kāi)關(guān)60設(shè)置在每一第二子管道502上。具體的，閥門(mén)開(kāi)關(guān)60的設(shè)置位置可以設(shè)置在連接過(guò)濾器30的任意管道上，在此不做贅述。在一些實(shí)施例中，請(qǐng)參閱圖4，圖4為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的剝離液機(jī)臺(tái)100的第四種結(jié)構(gòu)示意圖。第二管道50包括多個(gè)第三子管道503，每一所述第三子管道503與一子過(guò)濾器連通301，且每一所述第三子管道503與所述下一級(jí)腔室連通102。其中，閥門(mén)開(kāi)關(guān)60設(shè)置在每一第三子管道503上。本申請(qǐng)實(shí)施例提供的剝離液機(jī)臺(tái)，包括：依次順序排列的多級(jí)腔室、每一級(jí)...

單片清洗工藝避免了不同硅片之間相互污染，降低了產(chǎn)品缺陷，提高了產(chǎn)品良率?？蛇x擇的，清洗液采用氧化硫磺混合物溶液和過(guò)氧化氨混合物溶液。可選的，進(jìn)一步改進(jìn)，清洗液采用h2so4:h2o2配比范圍為6:1～4:1且溫度范圍為110℃～140℃的過(guò)氧化硫磺混合物溶液；以及，nh4oh:h2o2:h2o配比為1:℃～70℃的過(guò)氧化氨混合物溶液。本發(fā)明采用等離子體氮?dú)浠旌蠚怏w能與主要光刻膠層和第二光刻膠層反應(yīng)生成含氨揮發(fā)性化合物氣體，且與主要光刻膠層和第二光刻膠層反應(yīng)速率相等能更高效的剝離去除光刻膠，能有效減少光刻膠殘留。進(jìn)而避免由于光刻膠殘留造成對(duì)后續(xù)工藝的影響，提高產(chǎn)品良率。附圖說(shuō)明本發(fā)明附圖旨在示出...

所述功能切換口3外部并聯(lián)有高純水輸入管線1和沉淀劑輸入管線2。所述二級(jí)過(guò)濾罐13的底部設(shè)有廢液出口20。所述一級(jí)過(guò)濾罐16和二級(jí)過(guò)濾罐13內(nèi)部均懸設(shè)有攔截固體成分的過(guò)濾筒。本實(shí)施例中，所述一級(jí)過(guò)濾罐16和二級(jí)過(guò)濾罐13的結(jié)構(gòu)相同，以一級(jí)過(guò)濾罐16為例，由外殼1601、懸設(shè)于外殼1601內(nèi)的過(guò)濾筒、扣裝于過(guò)濾筒頂部的壓蓋1602組成。所述壓蓋1602中心設(shè)有對(duì)應(yīng)進(jìn)料管路15的通孔。所述過(guò)濾筒由均勻布設(shè)多孔1606的支撐筒體1605、設(shè)于支撐筒體1605內(nèi)表面的金屬濾網(wǎng)1604、設(shè)于金屬濾網(wǎng)1604表面的纖維濾布1603組成。所述支撐筒體1605的上沿伸出外殼1601頂部并利用水平翻邊支撐于外殼1...

本技術(shù)通過(guò)以下技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)上述目的：一種印刷品膠面印刷剝離復(fù)合裝置，包括主支撐架、橫向支架、伺服變頻電機(jī)、電機(jī)減速箱、印刷品放置箱、表面印刷結(jié)構(gòu)、膠面剝離結(jié)構(gòu)，所述主支撐架上方設(shè)置有所述橫向支架，所述橫向支架上方設(shè)置有所述伺服變頻電機(jī)，所述伺服變頻電機(jī)上方設(shè)置有所述電機(jī)減速箱，所述電機(jī)減速箱上方安裝有印刷品傳送帶，所述印刷品傳送帶一側(cè)安裝有所述印刷品放置箱，所述印刷品放置箱一側(cè)安裝有所述表面印刷結(jié)構(gòu)，所述表面印刷結(jié)構(gòu)上方設(shè)置有油墨放置箱,所述油墨放置箱下方安裝有油墨加壓器，所述油墨加壓器下方安裝有高壓噴頭，所述高壓噴頭一側(cè)安裝有防濺射擋板。剝離液分為溶劑型和水系兩種類(lèi)別；無(wú)錫哪家蝕刻液剝離液...

所述的鏈胺為乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、二甘醇胺、異丙醇胺、甲基二乙醇胺、amp-95中的任意一種或多種。技術(shù)方案中，所述的環(huán)胺為氨乙基哌嗪、羥乙基哌嗪、氨乙基嗎啉中的任意一種或多種。技術(shù)方案中，所述的緩蝕劑為三唑類(lèi)物質(zhì)。的技術(shù)方案中，所述的緩蝕劑為苯并三氮唑、甲基苯并三氮唑中的任意一種。技術(shù)方案中，所述的潤(rùn)濕劑含有羥基。技術(shù)方案中，所述的潤(rùn)濕劑為聚乙二醇、甘油中的任意一種。經(jīng)由上述的技術(shù)方案可知，與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有以下有益效果：本發(fā)明中加入環(huán)胺與鏈胺，能夠滲透、斷開(kāi)光刻膠分子間弱結(jié)合力，能夠快速、有效地溶解光刻膠，而配方中加入潤(rùn)濕劑，能夠有效地減少接觸角，增強(qiáng)親水性，使得剝離液親水性...

技術(shù)領(lǐng)域：本發(fā)明涉及一種選擇性剝離光刻膠制備微納結(jié)構(gòu)的方法，可用于微納制造，光學(xué)領(lǐng)域，電學(xué)，生物領(lǐng)域，mems領(lǐng)域，nems領(lǐng)域。技術(shù)背景：微納制造技術(shù)是衡量一個(gè)國(guó)家制造水平的重要標(biāo)志，對(duì)提高人們的生活水平，促進(jìn)產(chǎn)業(yè)發(fā)展與經(jīng)濟(jì)增長(zhǎng)，保障**安全等方法發(fā)揮著重要作用，微納制造技術(shù)是微傳感器、微執(zhí)行器、微結(jié)構(gòu)和功能微納系統(tǒng)制造的基本手段和重要基礎(chǔ)。基于半導(dǎo)體制造工藝的光刻技術(shù)是**常用的手段之一。對(duì)于納米孔的加工，常用的手段是先利用曝光負(fù)性光刻膠并顯影后得到微納尺度的柱狀結(jié)構(gòu)，再通過(guò)金屬的沉積和溶膠實(shí)現(xiàn)圖形反轉(zhuǎn)從而得到所需要的納米孔。然而傳統(tǒng)的方法由于光刻過(guò)程中的散焦及臨近效應(yīng)等會(huì)造成曝光后的微納...

縮短了某些領(lǐng)域與發(fā)達(dá)國(guó)家技術(shù)上的差距.騰田化學(xué)技術(shù)團(tuán)隊(duì)具有豐富分析及研發(fā)經(jīng)驗(yàn)，徹底解決了化工領(lǐng)域如金屬表面處理劑、清洗劑、金屬加工液、橡膠、塑料、膠黏劑、涂料、水處理藥劑、紡織印染助劑等企業(yè)配方改進(jìn)、新產(chǎn)品研發(fā)的切實(shí)問(wèn)題；正是騰田化學(xué)質(zhì)量的口碑，贏得多個(gè)領(lǐng)域**企業(yè)關(guān)注，成功地建立精細(xì)化學(xué)品研發(fā)平臺(tái)；在騰田化學(xué)共同努力下，民營(yíng)企業(yè)不斷技術(shù)創(chuàng)新，有利于化工行業(yè)的良好發(fā)展.騰田化學(xué)溫馨提示：當(dāng)你有產(chǎn)品分析數(shù)據(jù)，但是無(wú)法后期生產(chǎn)的時(shí)候，可以聯(lián)系騰田化學(xué)科技（上海）有限公司。騰田化學(xué)的業(yè)務(wù)范圍：1.各類(lèi)膠粘劑產(chǎn)品配方分析以及產(chǎn)品研發(fā)，為客戶提供產(chǎn)品配方及生產(chǎn)；2.涂料及油墨產(chǎn)品配方分析，為客戶提供產(chǎn)品...

本申請(qǐng)實(shí)施例還提供一種剝離液機(jī)臺(tái)的工作方法，請(qǐng)參閱圖5，圖5為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的剝離液機(jī)臺(tái)的工作方法的流程示意圖，該方法包括：步驟110、將多級(jí)腔室順序排列，按照處于剝離制程的剝離基板的傳送方向逐級(jí)向剝離基板提供剝離液；步驟120、將來(lái)自于當(dāng)前級(jí)腔室經(jīng)歷剝離制程的剝離液收集和存儲(chǔ)于當(dāng)前級(jí)腔室相應(yīng)的存儲(chǔ)箱中，所述剝離液中夾雜有薄膜碎屑；步驟130、使用當(dāng)前級(jí)腔室相應(yīng)的過(guò)濾器過(guò)濾來(lái)自當(dāng)前級(jí)腔室的剝離液并將過(guò)濾后的剝離液傳輸至下一級(jí)腔室；步驟140、若所述過(guò)濾器被所述薄膜碎屑阻塞，則關(guān)閉連接被阻塞的所述過(guò)濾器的管道上的閥門(mén)開(kāi)關(guān)；步驟150、取出被阻塞的所述過(guò)濾器。若過(guò)濾器包括多個(gè)并列排布的子過(guò)濾器，...