現(xiàn)市場(chǎng)呈現(xiàn) “國(guó)產(chǎn)崛起與進(jìn)口分野” 的競(jìng)爭(zhēng)格局。進(jìn)口品牌憑借早期技術(shù)積累,在市場(chǎng)仍占一定優(yōu)勢(shì),國(guó)產(chǎn)廠商則依托本土化優(yōu)勢(shì)快速突圍,通過(guò)優(yōu)化供應(yīng)鏈、降低生產(chǎn)成本,在中低端市場(chǎng)形成強(qiáng)競(jìng)爭(zhēng)力,尤其在工業(yè)質(zhì)檢、電路板失效分析等場(chǎng)景中,憑借高性價(jià)比和快速響應(yīng)的服務(wù)搶占份額。同時(shí),國(guó)內(nèi)企業(yè)持續(xù)加大研發(fā)投入,在探測(cè)器靈敏度、成像分辨率等指標(biāo)上不斷追趕,部分中端產(chǎn)品可以做到超越國(guó)際水平,且在定制化解決方案上更貼合本土客戶需求,如針對(duì)大尺寸主板檢測(cè)優(yōu)化的機(jī)型。隨著國(guó)產(chǎn)技術(shù)成熟度提升,與進(jìn)口品牌的競(jìng)爭(zhēng)邊界不斷模糊,推動(dòng)整體市場(chǎng)向多元化、高性價(jià)比方向發(fā)展。熱紅外顯微鏡的動(dòng)態(tài)功耗分析功能,同步記錄 100MHz 高頻信號(hào)下的熱響應(yīng)曲線。半導(dǎo)體熱紅外顯微鏡批量定制
半導(dǎo)體制程已逐步進(jìn)入 3 納米及更先進(jìn)階段,芯片內(nèi)部結(jié)構(gòu)日趨密集,供電電壓也持續(xù)降低,這使得微觀熱行為對(duì)器件性能的影響變得更為明顯。致晟光電熱紅外顯微鏡是在傳統(tǒng)熱發(fā)射顯微鏡基礎(chǔ)上,經(jīng)迭代進(jìn)化而成的精密工具。在先進(jìn)制程研發(fā)中,它在應(yīng)對(duì)熱難題方面能提供一定支持,在芯片設(shè)計(jì)驗(yàn)證、失效排查以及性能優(yōu)化等環(huán)節(jié),都能發(fā)揮相應(yīng)的作用。其通過(guò)不斷優(yōu)化的技術(shù),適應(yīng)了先進(jìn)制程下對(duì)微觀熱信號(hào)檢測(cè)的需求,為相關(guān)研發(fā)工作提供了有助于分析和解決問(wèn)題的熱分布信息,助力研發(fā)人員更好地推進(jìn)芯片相關(guān)的研究與改進(jìn)工作。
半導(dǎo)體失效分析熱紅外顯微鏡品牌熱紅外顯微鏡可模擬器件實(shí)際工作溫度測(cè)試,為產(chǎn)品性能評(píng)估提供真實(shí)有效數(shù)據(jù)。
在國(guó)內(nèi)失效分析設(shè)備領(lǐng)域,專注于原廠研發(fā)與生產(chǎn)的企業(yè)數(shù)量相對(duì)較少,尤其在熱紅外檢測(cè)這類高精度細(xì)分領(lǐng)域,具備自主技術(shù)積累的原廠更為稀缺。這一現(xiàn)狀既源于技術(shù)門檻 —— 需融合光學(xué)、紅外探測(cè)、信號(hào)處理等多學(xué)科技術(shù),也受限于市場(chǎng)需求的專業(yè)化程度,導(dǎo)致多數(shù)企業(yè)傾向于代理或集成方案。
致晟光電正是國(guó)內(nèi)少數(shù)深耕該領(lǐng)域的原廠之一。不同于單純的設(shè)備組裝,其從中樞技術(shù)迭代入手,在傳統(tǒng)熱發(fā)射顯微鏡基礎(chǔ)上進(jìn)化出熱紅外顯微鏡,形成從光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)、信號(hào)算法研發(fā)到整機(jī)制造的完整能力。這種原廠基因使其能深度理解國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體、材料等行業(yè)的失效分析需求,例如針對(duì)先進(jìn)制程芯片的微小熱信號(hào)檢測(cè)、國(guó)產(chǎn)新材料的熱特性研究等場(chǎng)景,提供更貼合實(shí)際應(yīng)用的設(shè)備與技術(shù)支持,成為本土失效分析領(lǐng)域不可忽視的自主力量。
熱紅外顯微鏡(Thermal EMMI) 圖像分析是通過(guò)探測(cè)物體自身發(fā)出的紅外輻射,將其轉(zhuǎn)化為可視化圖像,進(jìn)而分析物體表面溫度分布等信息的技術(shù)。其原理是溫度高于零度的物體都會(huì)向外發(fā)射紅外光,熱紅外顯微鏡通過(guò)吸收這些紅外光,利用光電轉(zhuǎn)換將其變?yōu)闇囟葓D像。物體內(nèi)電荷擾動(dòng)會(huì)產(chǎn)生遠(yuǎn)場(chǎng)輻射和近場(chǎng)輻射,近場(chǎng)輻射以倏逝波形式存在,強(qiáng)度隨遠(yuǎn)離物體表面急劇衰退,通過(guò)掃描探針技術(shù)可散射近場(chǎng)倏逝波,從而獲取物體近場(chǎng)信息,實(shí)現(xiàn)超分辨紅外成像。熱紅外顯微鏡在工業(yè)生產(chǎn)中,用于在線監(jiān)測(cè)電子器件的熱質(zhì)量 。
非破壞性分析(NDA)以非侵入方式分析樣品內(nèi)部結(jié)構(gòu)和性能,無(wú)需切割、拆解或化學(xué)處理,能保留樣品完整性,為后續(xù)研究留有余地,在高精度、高成本的半導(dǎo)體領(lǐng)域作用突出。
無(wú)損分析,通過(guò)捕捉樣品自身紅外熱輻射成像,全程無(wú)接觸,無(wú)需對(duì)晶圓、芯片等進(jìn)行破壞性處理。在半導(dǎo)體制造中,可識(shí)別晶圓晶體缺陷;封裝階段,能檢測(cè)焊接點(diǎn)完整性或封裝層粘結(jié)質(zhì)量;失效分析時(shí),可定位內(nèi)部短路或斷裂區(qū)域的隱性熱信號(hào),為根源分析提供依據(jù),完美適配半導(dǎo)體行業(yè)對(duì)高價(jià)值樣品的保護(hù)需求。 熱紅外顯微鏡可實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)電子設(shè)備運(yùn)行中的熱變化,預(yù)防過(guò)熱故障 。無(wú)損熱紅外顯微鏡用戶體驗(yàn)
熱紅外顯微鏡通過(guò)熱成像技術(shù),快速定位 PCB 板上的短路熱點(diǎn) 。半導(dǎo)體熱紅外顯微鏡批量定制
近年來(lái),非制冷熱紅外顯微鏡價(jià)格呈下行趨勢(shì)。在技術(shù)進(jìn)步層面,國(guó)內(nèi)紅外焦平面陣列芯片技術(shù)不斷突破,像元間距縮小、陣列規(guī)模擴(kuò)大,從早期的 17μm、384×288 發(fā)展到如今主流的 12μm 像元,1280 ×1 024、1920 × 1080 陣列規(guī)模實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),如大立科技等企業(yè)推動(dòng)技術(shù)升級(jí),提升生產(chǎn)效率,降低單臺(tái)設(shè)備成本。同時(shí),國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程加速,多家本土廠商崛起,如我司推出非制冷型鎖相紅外顯微鏡,打破進(jìn)口壟斷格局,市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)加劇,促使產(chǎn)品價(jià)格更加親民。半導(dǎo)體熱紅外顯微鏡批量定制