光學(xué)變焦是通過(guò)鏡頭、物體和焦點(diǎn)三方的位置發(fā)生變化而產(chǎn)生的。當(dāng)成像面在水平方向運(yùn)動(dòng)的時(shí)候，視覺和焦距就會(huì)發(fā)生變化，更遠(yuǎn)的景物變得更清晰，讓人感覺像物體遞進(jìn)的感覺。顯而易見，要改變視角必然有兩種辦法，一種是改變鏡頭的焦距。用攝影的話來(lái)說(shuō)，這就是光學(xué)變焦。通過(guò)改變變...

定焦鏡頭的好處，主要體現(xiàn)在短焦段的使用上：⒈定焦的廣角或標(biāo)準(zhǔn)鏡頭一般都比涵蓋相應(yīng)焦距段的變焦鏡頭口徑大。一般的定焦廣角和中焦鏡頭的光圈都在2.8以上，通光量大，便于在低照度情況下拍攝。定焦鏡頭⒉定焦的廣角鏡頭一般都比涵蓋相應(yīng)焦距段的變焦鏡頭**短對(duì)焦距離近。比...

2.該機(jī)械有一個(gè)刻上至少2000個(gè)字母的蓋子，因此安提基特拉機(jī)械研究計(jì)劃的人員經(jīng)常認(rèn)為這是儀器說(shuō)明書。這**是為了便于攜帶和個(gè)人使用。3.“說(shuō)明書”的存在**該裝置是科學(xué)家和工程師設(shè)計(jì)作為非專業(yè)的旅行者使用。（記載文字有許多關(guān)于地中海的地理位置資訊）該機(jī)械不太...

定焦鏡頭（prime lens）是指只有一個(gè)固定焦距的鏡頭，沒有焦段一說(shuō)，或者說(shuō)只有一個(gè)視野。定焦鏡頭沒有變焦功能。 [1]定焦鏡頭的設(shè)計(jì)相對(duì)變焦鏡頭而言要簡(jiǎn)單得多，但一般變焦鏡頭在變焦過(guò)程中對(duì)成像會(huì)有所影響，而定焦鏡頭相對(duì)于變焦機(jī)器的比較大好處就是對(duì)焦速度快...

CS型鏡頭With a 5 mm adapter ring, a C lens can be used on a CS-mount camera.U型鏡頭一種可變焦距的鏡頭，其法蘭焦距為47.526mm或1.7913in，安裝羅紋為M42×1。主要設(shè)計(jì)作35m...

集成電路制造中利用光學(xué)- 化學(xué)反應(yīng)原理和化學(xué)、物理刻蝕方法，將電路圖形傳遞到單晶表面或介質(zhì)層上，形成有效圖形窗口或功能圖形的工藝技術(shù)。隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，光刻技術(shù)傳遞圖形的尺寸限度縮小了2～3個(gè)數(shù)量級(jí)（從毫米級(jí)到亞微米級(jí)），已從常規(guī)光學(xué)技術(shù)發(fā)展到應(yīng)用電子束、...

1.氣相成底模2.旋轉(zhuǎn)烘膠3.軟烘4.對(duì)準(zhǔn)和曝光5.曝光后烘焙（PEB）6.顯影7.堅(jiān)膜烘焙8.顯影檢查光刻是平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個(gè)主要工藝。是對(duì)半導(dǎo)體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進(jìn)行開孔，以便進(jìn)行雜質(zhì)的定域擴(kuò)散的一種加工技術(shù)。準(zhǔn)分子光刻技術(shù)作為...

能使前后被攝物產(chǎn)生壓縮感。遠(yuǎn)攝鏡頭的另一個(gè)***的效果是將遠(yuǎn)處被攝體“拉近”，從而使前后被攝物產(chǎn)生被壓縮的感覺。在一些重大體育賽事中，成群的攝影記者往往架起大炮般的遠(yuǎn)攝鏡頭拍攝馬拉松賽跑起跑時(shí)運(yùn)動(dòng)員重重疊疊的場(chǎng)景，這是因?yàn)樵谶@種場(chǎng)合中，攝影者依賴遠(yuǎn)攝鏡頭遠(yuǎn)離被...

使用長(zhǎng)焦鏡頭拍攝時(shí)，測(cè)光比較好采用機(jī)內(nèi)TTL測(cè)光方式。因?yàn)?，普通的入射式或反射式測(cè)光表的受光角往往大于鏡頭視角，直接按測(cè)光表數(shù)值曝光會(huì)出現(xiàn)偏差 [6]。1、使用較高快門速度高速快門可以降低或避免相機(jī)抖動(dòng)造成的圖像發(fā)虛。尤其是手持相機(jī)時(shí)，應(yīng)首先考慮通過(guò)提高快門速...

優(yōu)點(diǎn)雖然使用長(zhǎng)焦距鏡頭要受到不少因素的影響，但其優(yōu)點(diǎn)卻是主要的。在遠(yuǎn)距離拍攝風(fēng)光、人物，在看臺(tái)拍攝舞臺(tái)、體育比賽等，在動(dòng)物園拍攝動(dòng)物，在野外拍攝禽獸，加輔助鏡進(jìn)行近拍等等，在這些眾多的領(lǐng)域中，無(wú)處不是它的用武之地。在一般情況下拍攝，為了保持照相機(jī)的穩(wěn)定，比較好...

光刻是平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個(gè)主要工藝。是對(duì)半導(dǎo)體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進(jìn)行開孔，以便進(jìn)行雜質(zhì)的定域擴(kuò)散的一種加工技術(shù)。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對(duì)準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕、檢測(cè)等工序。硅片清洗烘干方...

●高剛性高剛性、高精密的構(gòu)架，采用鋼板焊接，并經(jīng)熱處理、消除床身內(nèi)應(yīng)力?！裰匦钠胶?．傳動(dòng)中心與機(jī)器整體的中心趨于一致，確保沖壓的精確、穩(wěn)定?！癫僮鞣€(wěn)定、安全離合器/剎車器裝置高度靈敏，再加國(guó)際前列的雙聯(lián)電磁閥和過(guò)負(fù)荷保護(hù)裝置，確保沖床滑塊運(yùn)轉(zhuǎn)及停止的精確性與...

能使前后被攝物產(chǎn)生壓縮感。遠(yuǎn)攝鏡頭的另一個(gè)***的效果是將遠(yuǎn)處被攝體“拉近”，從而使前后被攝物產(chǎn)生被壓縮的感覺。在一些重大體育賽事中，成群的攝影記者往往架起大炮般的遠(yuǎn)攝鏡頭拍攝馬拉松賽跑起跑時(shí)運(yùn)動(dòng)員重重疊疊的場(chǎng)景，這是因?yàn)樵谶@種場(chǎng)合中，攝影者依賴遠(yuǎn)攝鏡頭遠(yuǎn)離被...

2005年，X射線檢測(cè)提供了關(guān)鍵的線索——?dú)埰瑑?nèi)部隱藏了數(shù)千個(gè)一直都未曾被閱讀的字符。雷姆在1905年到1906年間的研究筆記表示，前板載有可知太陽(yáng)和行星位置的同心環(huán)形天象演示系統(tǒng)。裝置配有前、后兩蓋以保護(hù)顯示系統(tǒng)，并刻有大量銘文。2005年的掃描結(jié)果顯示，后...

46、墊板墊板是介于固定板（或凹模）與模座間的淬硬板狀零件，用以減低模座承受的單位壓縮應(yīng)力。A.每使用1500-2000小時(shí)維護(hù)保養(yǎng)應(yīng)執(zhí)行項(xiàng)目:1.滑潤(rùn)油脂吐出油量及壓力檢知功能測(cè)試與調(diào)整.2.空氣系統(tǒng)之濾清器,給油器調(diào)整閥等功能及水份雜質(zhì)測(cè)試檢查與必要調(diào)整....

介紹04:54新型DUV光刻機(jī)公布，套刻精度達(dá)8納米！與全球前列設(shè)備差多少？直接分步重復(fù)曝光系統(tǒng) (DSW) 超大規(guī)模集成電路需要有高分辨率、高套刻精度和大直徑晶片加工。直接分步重復(fù)曝光系統(tǒng)是為適應(yīng)這些相互制約的要求而發(fā)展起來(lái)的光學(xué)曝光系統(tǒng)。主要技術(shù)特點(diǎn)是：...

極紫外光刻系統(tǒng)是采用13.5納米波長(zhǎng)極紫外光源的半導(dǎo)體制造**設(shè)備，可將芯片制程推進(jìn)至7納米、5納米及更先進(jìn)節(jié)點(diǎn)。該系統(tǒng)由荷蘭阿斯麥公司于2019年推出第五代產(chǎn)品，突破光學(xué)衍射極限，將摩爾定律物理極限推向新高度。2021年12月14日，中國(guó)工程院***發(fā)布的"...

e、光刻膠厚度控片（PhotoResist Thickness MC）：光刻膠厚度測(cè)量；f、光刻缺陷控片（PDM，Photo Defect Monitor）：光刻膠缺陷監(jiān)控。舉例：0.18μm的CMOS掃描步進(jìn)光刻工藝。光源：KrF氟化氪DUV光源（248nm...

光致抗蝕劑，簡(jiǎn)稱光刻膠或抗蝕劑，指光照后能改變抗蝕能力的高分子化合物。光蝕劑分為兩大類。①正性光致抗蝕劑：受光照部分發(fā)生降解反應(yīng)而能為顯影液所溶解。留下的非曝光部分的圖形與掩模版一致。正性抗蝕劑具有分辨率高、對(duì)駐波效應(yīng)不敏感、曝光容限大、***密度低和無(wú)毒性等...

優(yōu)點(diǎn)雖然使用長(zhǎng)焦距鏡頭要受到不少因素的影響，但其優(yōu)點(diǎn)卻是主要的。在遠(yuǎn)距離拍攝風(fēng)光、人物，在看臺(tái)拍攝舞臺(tái)、體育比賽等，在動(dòng)物園拍攝動(dòng)物，在野外拍攝禽獸，加輔助鏡進(jìn)行近拍等等，在這些眾多的領(lǐng)域中，無(wú)處不是它的用武之地。在一般情況下拍攝，為了保持照相機(jī)的穩(wěn)定，比較好...

19.超負(fù)荷保護(hù)裝置之油路清潔,油室清洗,油品換新及壓力動(dòng)作與功能測(cè)試調(diào)整.20.主馬達(dá)V型皮帶磨耗及張力狀況檢查,調(diào)整.21.離剎機(jī)構(gòu)各部件拆卸分解(飛輪不含)清潔保養(yǎng),間隙檢查調(diào)整及裝復(fù)調(diào)試.22.平衡器另部件拆卸分解,清潔檢查及裝復(fù)調(diào)試.C.每使用600...

b、接近式曝光（Proximity Printing）。掩膜板與光刻膠層的略微分開，大約為10～50μm。可以避免與光刻膠直接接觸而引起的掩膜板損傷。但是同時(shí)引入了衍射效應(yīng)，降低了分辨率。1970后適用，但是其最大分辨率*為2～4μm。c、投影式曝光（Proj...

得指出的是，EUV光刻技術(shù)的研發(fā)始于20世紀(jì)80年代。**早希望在半周期為70nm的節(jié)點(diǎn)（對(duì)應(yīng)邏輯器件130nm節(jié)點(diǎn)）就能用上EUV光刻機(jī) [1]。可是，這一技術(shù)一直達(dá)不到晶圓廠量產(chǎn)光刻所需要的技術(shù)指標(biāo)和產(chǎn)能要求。一拖再拖，直到2016年，EUV光刻機(jī)仍然沒能...

舉例來(lái)說(shuō)，對(duì)某一確定的被攝體，水平方向需要200個(gè)像素才能再現(xiàn)其細(xì)節(jié)，如果成像寬度為10mm，則光學(xué)分辨率為20線/mm的鏡頭就能勝任，如果成像寬度為1mm，則要求鏡頭的光學(xué)分辨率必須在200線/毫米以上。另一方面，傳統(tǒng)膠卷對(duì)紫外線比較敏感，外拍時(shí)常需要加裝U...

前方的轉(zhuǎn)盤可能至少有三個(gè)指針，***個(gè)指針指示日期，另外兩個(gè)則分別指示太陽(yáng)和月球位置。月球的指針已被調(diào)整過(guò)**月球軌道的變化，因此相信太陽(yáng)的指針也有過(guò)類似的調(diào)整，但相關(guān)機(jī)制的齒輪（如有）已經(jīng)不存。前方轉(zhuǎn)盤的第二個(gè)功能則是有一個(gè)月球的球形，做為月相指示。該機(jī)械上...

對(duì)于新影像的進(jìn)一步研究促使萊特提出新看法。首先他將普萊斯的模式進(jìn)一步發(fā)展，認(rèn)為該儀器相當(dāng)于一個(gè)天象儀。萊特的天象儀不只可模擬日月運(yùn)動(dòng)，還可顯示內(nèi)側(cè)行星（水星和金星）和外側(cè)行星（火星、木星和土星）的運(yùn)動(dòng)。萊特提出該機(jī)械的日月運(yùn)動(dòng)是基于喜帕恰斯的理論，五顆古典行星...

對(duì)于新影像的進(jìn)一步研究促使萊特提出新看法。首先他將普萊斯的模式進(jìn)一步發(fā)展，認(rèn)為該儀器相當(dāng)于一個(gè)天象儀。萊特的天象儀不只可模擬日月運(yùn)動(dòng)，還可顯示內(nèi)側(cè)行星（水星和金星）和外側(cè)行星（火星、木星和土星）的運(yùn)動(dòng)。萊特提出該機(jī)械的日月運(yùn)動(dòng)是基于喜帕恰斯的理論，五顆古典行星...

b、堅(jiān)膜，以提高光刻膠在離子注入或刻蝕中保護(hù)下表面的能力；c、進(jìn)一步增強(qiáng)光刻膠與硅片表面之間的黏附性；d、進(jìn)一步減少駐波效應(yīng)（Standing Wave Effect）。常見問(wèn)題：a、烘烤不足（Underbake）。減弱光刻膠的強(qiáng)度（抗刻蝕能力和離子注入中的阻...

長(zhǎng)焦距鏡頭是指比標(biāo)準(zhǔn)鏡頭的焦距長(zhǎng)的攝影鏡頭。長(zhǎng)焦距鏡頭分為普通遠(yuǎn)攝鏡頭和超遠(yuǎn)攝鏡頭兩類。普通遠(yuǎn)攝鏡頭的焦距長(zhǎng)度接近標(biāo)準(zhǔn)鏡頭，而超遠(yuǎn)攝鏡頭的焦距卻遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于標(biāo)準(zhǔn)鏡頭。以135照相機(jī)為例，其鏡頭焦距從85毫米-300毫米的攝影鏡頭為普通遠(yuǎn)攝鏡頭，300毫米以上的為超...

舉例來(lái)說(shuō)，對(duì)某一確定的被攝體，水平方向需要200個(gè)像素才能再現(xiàn)其細(xì)節(jié)，如果成像寬度為10mm，則光學(xué)分辨率為20線/mm的鏡頭就能勝任，如果成像寬度為1mm，則要求鏡頭的光學(xué)分辨率必須在200線/毫米以上。另一方面，傳統(tǒng)膠卷對(duì)紫外線比較敏感，外拍時(shí)常需要加裝U...