定焦鏡頭（prime lens）是指只有一個固定焦距的鏡頭，沒有焦段一說，或者說只有一個視野。定焦鏡頭沒有變焦功能。 [1]定焦鏡頭的設計相對變焦鏡頭而言要簡單得多，但一般變焦鏡頭在變焦過程中對成像會有所影響，而定焦鏡頭相對于變焦機器的比較大好處就是對焦速度快...

半導體器件和集成電路對光刻曝光技術提出了越來越高的要求，在單位面積上要求完善傳遞圖像的信息量已接近常規(guī)光學的極限。光刻曝光的常用波長是3650～4358 埃，預計實用分辨率約為1微米。幾何光學的原理，允許將波長向下延伸至約2000埃的遠紫外波長，此時可達到的實...

***，安提基特拉機械前方面板是現(xiàn)代天文年鑒的前身（Parapegma），可以設定標記特定恒星的升起。一般認為每顆恒星都以機械上一個希臘文字母做標記。在機械后面上方的轉盤是螺旋形，每次旋轉分成47個部分，**19年或235個朔望月的默冬章。該循環(huán)對于歷法修正很...

長焦距鏡頭是指比標準鏡頭的焦距長的攝影鏡頭。長焦距鏡頭分為普通遠攝鏡頭和超遠攝鏡頭兩類。普通遠攝鏡頭的焦距長度接近標準鏡頭，而超遠攝鏡頭的焦距卻遠遠大于標準鏡頭。以135照相機為例，其鏡頭焦距從85毫米-300毫米的攝影鏡頭為普通遠攝鏡頭，300毫米以上的為超...

b、堅膜，以提高光刻膠在離子注入或刻蝕中保護下表面的能力；c、進一步增強光刻膠與硅片表面之間的黏附性；d、進一步減少駐波效應（Standing Wave Effect）。常見問題：a、烘烤不足（Underbake）。減弱光刻膠的強度（抗刻蝕能力和離子注入中的阻...

06:28已經(jīng)確認！2000年前的計算機，安提基特拉機械安提基特拉機械是世界上已知**早的齒輪裝置。自從發(fā)現(xiàn)以來一直讓科學史和技術史**好奇又疑惑。數(shù)個個人或團隊研究已經(jīng)對其機制有更進一步了解。主要研究人員有：首先研究它的德國語言學家阿爾伯特·雷姆、德瑞克·約...

四是，鏡頭的焦距越長，相機就必須把握得越穩(wěn)定，以避免影像模糊。經(jīng)驗準則是只有當快門速度至少等于鏡頭焦距毫米數(shù)的倒數(shù)時才能夠手持鏡頭進行拍攝，也稱為“安全快門”。也就是說，當快門速度低于1/100秒時就不能手持100mm鏡頭拍攝，低于1/500秒時就不能手持50...

***，安提基特拉機械前方面板是現(xiàn)代天文年鑒的前身（Parapegma），可以設定標記特定恒星的升起。一般認為每顆恒星都以機械上一個希臘文字母做標記。在機械后面上方的轉盤是螺旋形，每次旋轉分成47個部分，**19年或235個朔望月的默冬章。該循環(huán)對于歷法修正很...

西塞羅的著作《論共和國》，一本西元前一世紀的哲學對話錄，提及兩個現(xiàn)代被認為是某種天象儀或太陽系儀的儀器，可以預測日月和五顆行星在天球的位置。這兩個儀器都是由阿基米德制造，在阿基米德于西元前212年的敘拉古圍城戰(zhàn)身亡后，這兩臺機器被羅馬將領馬庫斯·克勞迪烏斯·馬...

西塞羅的著作《論共和國》，一本西元前一世紀的哲學對話錄，提及兩個現(xiàn)代被認為是某種天象儀或太陽系儀的儀器，可以預測日月和五顆行星在天球的位置。這兩個儀器都是由阿基米德制造，在阿基米德于西元前212年的敘拉古圍城戰(zhàn)身亡后，這兩臺機器被羅馬將領馬庫斯·克勞迪烏斯·馬...

42、始用擋料銷（板）始用擋料銷（板）是供材料起始端部送進時定位用的零件。始用擋料銷（板）都是移動式的。43、拼塊塊是組成一個完整凹模、凸模、卸料板或固定板等的各個拼合零件。44、擋塊（板）擋塊（板）是供經(jīng)側刃切出缺口的材料送進時定位用的淬硬零件，兼用以平衡側...

廣角鏡頭是一種焦距短于標準鏡頭、視角大于標準鏡頭、焦距長于魚眼鏡頭、視角小于魚眼鏡頭的攝影鏡頭。廣角鏡頭又分為普通廣角鏡頭和超廣角鏡頭兩種。普通廣角鏡頭的焦距一般為38－24毫米，視角為60－84度；超廣角鏡頭的焦距為20－13毫米，視角為94-118度。由于...

③縮短圖像傳遞鏈，減少工藝上造成的缺陷和誤差，可獲得很高的成品率。④采用精密自動調(diào)焦技術，避免高溫工藝引起的晶片變形對成像質量的影響。⑤采用原版自動選擇機構（版庫），不但有利于成品率的提高，而且成為能靈活生產(chǎn)多電路組合的常規(guī)曝光系統(tǒng)。浸入式光刻技術原理這種系統(tǒng)...

半導體器件和集成電路對光刻曝光技術提出了越來越高的要求，在單位面積上要求完善傳遞圖像的信息量已接近常規(guī)光學的極限。光刻曝光的常用波長是3650～4358 埃，預計實用分辨率約為1微米。幾何光學的原理，允許將波長向下延伸至約2000埃的遠紫外波長，此時可達到的實...

光學變焦是通過鏡頭、物體和焦點三方的位置發(fā)生變化而產(chǎn)生的。當成像面在水平方向運動的時候，視覺和焦距就會發(fā)生變化，更遠的景物變得更清晰，讓人感覺像物體遞進的感覺。顯而易見，要改變視角必然有兩種辦法，一種是改變鏡頭的焦距。用攝影的話來說，這就是光學變焦。通過改變變...

按接口C型鏡頭法蘭焦距是安裝法蘭到入射鏡頭平行光的匯聚點之間的距離。法蘭焦距為17.526mm或0.690in。安裝羅紋為：直徑1in，32牙.in。鏡頭可以用在長度為0.512in (13mm)以內(nèi)的線陣傳感器。但是，由于幾何變形和市場角特性，必須鑒別短焦鏡...

浸沒式光刻機是通過在物鏡與晶圓之間注入超純水，等效縮短光源波長并提升數(shù)值孔徑，從而實現(xiàn)更高分辨率的半導體制造**設備。2024年9月工信部文件顯示，國產(chǎn)氟化氬浸沒式光刻機套刻精度已達到≤8nm水平。該技術研發(fā)涉及浸液系統(tǒng)、光學控制等多項復雜工藝，林本堅團隊在浸...

使用長焦距鏡頭拍攝具有以下幾個方面的特點： [3]視角小所以，拍攝的景物空間范圍也小，在相同的拍攝距離處，所拍攝的影像大于標準鏡頭，適用于拍攝遠處景物的細部和拍攝不易接近的被攝體 [3]。景深短所以，能使處于雜亂環(huán)境中的被攝主體得到突出。但給精確調(diào) 焦帶來了一...

實際上，由于液體介質的折射率相比空氣介質更接近曝光透鏡鏡片材料的折射率，等效地加大了透鏡口徑尺寸與數(shù)值孔徑（NA），同時可以 ***提高焦深（DOF）和曝光工藝的寬容度（EL），浸沒式光 刻 技 術 正 是 利 用 這 個 原 理 來 提 高 其 分 辨率。世...

為把193i技術進一步推進到32和22nm的技術節(jié)點上，光刻**一直在尋找新的技術，在沒有更好的新光刻技術出現(xiàn)前，兩次曝光技術（或者叫兩次成型技術，DPT）成為人們關 注 的 熱 點。ArF浸沒式兩次曝光技術已被業(yè)界認為是32nm節(jié)點相當有競爭力的技術；在更低...

b、堅膜，以提高光刻膠在離子注入或刻蝕中保護下表面的能力；c、進一步增強光刻膠與硅片表面之間的黏附性；d、進一步減少駐波效應（Standing Wave Effect）。常見問題：a、烘烤不足（Underbake）。減弱光刻膠的強度（抗刻蝕能力和離子注入中的阻...

廣角鏡頭又稱短鏡頭。攝影輔助鏡頭的一種。鏡頭焦距***地小于像場直徑(底片對角線長度)，約為6～35毫米;視角大于標準鏡頭，約為53°以上直至220°。相對口徑一般較小。廣角透鏡在十九世紀六十年代快直光鏡頭出現(xiàn)后即產(chǎn)生，此后經(jīng)種種演變，已成攝影鏡頭中一個重要類...

優(yōu)點雖然使用長焦距鏡頭要受到不少因素的影響，但其優(yōu)點卻是主要的。在遠距離拍攝風光、人物，在看臺拍攝舞臺、體育比賽等，在動物園拍攝動物，在野外拍攝禽獸，加輔助鏡進行近拍等等，在這些眾多的領域中，無處不是它的用武之地。在一般情況下拍攝，為了保持照相機的穩(wěn)定，比較好...

機械手關節(jié)減速機是一種通過電機驅動實現(xiàn)自動化角度調(diào)整的精密傳動裝置，具有重復定位精度≤5秒的特點，適配AC伺服或步進馬達。其穩(wěn)重承載能力和高精度特性使其廣泛應用于精密加工機床、航太工業(yè)、半導體設備、印刷機械，食品包裝、自動化產(chǎn)業(yè)、工業(yè)機器人、醫(yī)療檢驗、精密測試...

CS型鏡頭With a 5 mm adapter ring, a C lens can be used on a CS-mount camera.U型鏡頭一種可變焦距的鏡頭，其法蘭焦距為47.526mm或1.7913in，安裝羅紋為M42×1。主要設計作35m...

電子束光刻基本上分兩大類，一類是大生產(chǎn)光掩模版制造的電子束曝光系統(tǒng)，另一類是直接在基片上直寫納米級圖形的電子束光刻系統(tǒng)。電子束光刻技術起源于掃描電鏡，**早由德意志聯(lián)邦共和國杜平根大學的G．Mollenstedt等人在20世紀60年代提出。電子束曝光的波長取決...

EUV光刻采用波長為10-14納米的極紫外光作為光源，可使曝光波長一下子降到13.5nm,它能夠把光刻技術擴展到32nm以下的特征尺寸。根據(jù)瑞利公式（分辨率=k1·λ/NA），這么短的波長可以提供極高的光刻分辨率。換個角度講，使用193i與EUV光刻機曝同一個...

浸沒式光刻機是通過在物鏡與晶圓之間注入超純水，等效縮短光源波長并提升數(shù)值孔徑，從而實現(xiàn)更高分辨率的半導體制造**設備。2024年9月工信部文件顯示，國產(chǎn)氟化氬浸沒式光刻機套刻精度已達到≤8nm水平。該技術研發(fā)涉及浸液系統(tǒng)、光學控制等多項復雜工藝，林本堅團隊在浸...

實際上，由于液體介質的折射率相比空氣介質更接近曝光透鏡鏡片材料的折射率，等效地加大了透鏡口徑尺寸與數(shù)值孔徑（NA），同時可以 ***提高焦深（DOF）和曝光工藝的寬容度（EL），浸沒式光 刻 技 術 正 是 利 用 這 個 原 理 來 提 高 其 分 辨率。世...

EUV光刻系統(tǒng)的發(fā)展歷經(jīng)應用基礎研究至量產(chǎn)四個階段，其突破得益于多元主體協(xié)同創(chuàng)新和全產(chǎn)業(yè)鏈資源整合 [3]。截至2024年12月，EUV技術已應用于2nm芯片量產(chǎn)，但仍需優(yōu)化光源和光刻膠性能。下一代技術如納米壓印和定向自組裝正在研發(fā)中 [6]。**光刻系統(tǒng)主要...