b、堅(jiān)膜，以提高光刻膠在離子注入或刻蝕中保護(hù)下表面的能力；c、進(jìn)一步增強(qiáng)光刻膠與硅片表面之間的黏附性；d、進(jìn)一步減少駐波效應(yīng)（Standing Wave Effect）。常見問題：a、烘烤不足（Underbake）。減弱光刻膠的強(qiáng)度（抗刻蝕能力和離子注入中的阻...

景深范圍隨著鏡頭對(duì)被攝體聚焦，可在固定參看符號(hào)兩邊尋找對(duì)應(yīng)于（或接近）己調(diào)定的光圈f/數(shù)，辨認(rèn)焦距標(biāo)記下相對(duì)的數(shù)值，便可決定有效景深。景深的作用光圈大小的改變：通過相同焦距的鏡頭對(duì)相同距離的被攝體聚焦，該示說明光圈大小的調(diào)整是如何改變景深的。一般來說，被攝體的...

電子束光刻基本上分兩大類，一類是大生產(chǎn)光掩模版制造的電子束曝光系統(tǒng)，另一類是直接在基片上直寫納米級(jí)圖形的電子束光刻系統(tǒng)。電子束光刻技術(shù)起源于掃描電鏡，**早由德意志聯(lián)邦共和國(guó)杜平根大學(xué)的G．Mollenstedt等人在20世紀(jì)60年代提出。電子束曝光的波長(zhǎng)取決...

現(xiàn)代學(xué)者的共識(shí)是該機(jī)械是在希臘語使用區(qū)域制造，所有機(jī)械上組件的文字都是通用希臘語。一種假說認(rèn)為，該機(jī)械是在希臘當(dāng)時(shí)的天文和機(jī)械工程中心羅德島上的斯多亞學(xué)派學(xué)者波希多尼制造，而天文學(xué)家喜帕恰斯參與了設(shè)計(jì)，因?yàn)樵摍C(jī)械采用了喜帕恰斯的月球運(yùn)動(dòng)理論。但由安提基特拉機(jī)械...

后烘方法：熱板，110～130C,1分鐘。目的：a、減少駐波效應(yīng)；b、激發(fā)化學(xué)增強(qiáng)光刻膠的PAG產(chǎn)生的酸與光刻膠上的保護(hù)基團(tuán)發(fā)生反應(yīng)并移除基團(tuán)使之能溶解于顯影液。顯影方法：a、整盒硅片浸沒式顯影（Batch Development）。缺點(diǎn)：顯影液消耗很大；顯影...

手動(dòng)光圈變焦鏡頭焦距可變的，有一個(gè)焦距調(diào)整環(huán)，可以在一定范圍內(nèi)調(diào)整鏡頭的焦距，其可變比一般為2 ～3倍，焦距一般為3.6~8mm。實(shí)際應(yīng)用中，可通過手動(dòng)調(diào)節(jié)鏡頭的變焦環(huán)，可以方便地選擇被監(jiān)視地市場(chǎng)的市場(chǎng)角。但是當(dāng)攝像機(jī)安裝位置固定下以后，在頻繁地手動(dòng)調(diào)整變焦是...

由測(cè)量系統(tǒng)、指示部分和表殼部分等組成。2.測(cè)量系統(tǒng)——由接頭，彈簧管和齒輪轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)等組成。3.由被測(cè)介質(zhì)的壓力作用，使彈簧管的末端（自由端）相應(yīng)地產(chǎn)生位移，借助連桿帶動(dòng)機(jī)構(gòu)中的扇形齒輪產(chǎn)生一角位移，而使齒輪軸得以偏轉(zhuǎn)——傳給指示部分。4.指示部分——由分度盤、...

EUV光刻技術(shù)的發(fā)展能否趕得上集成電路制造技術(shù)的要求？這仍然是一個(gè)問題。當(dāng)然，EUV光刻技術(shù)的進(jìn)步也是巨大的。截止2016年，用于研發(fā)和小批量試產(chǎn)的EUV光刻機(jī)，已經(jīng)被安裝在晶圓廠，并投入使用 [1]。EUV光刻所能提供的高分辨率已經(jīng)被實(shí)驗(yàn)所證實(shí)。光刻機(jī)供應(yīng)商...

在曝光過程中，需要對(duì)不同的參數(shù)和可能缺陷進(jìn)行跟蹤和控制，會(huì)用到檢測(cè)控制芯片/控片（Monitor Chip）。根據(jù)不同的檢測(cè)控制對(duì)象，可以分為以下幾種：a、顆?？仄≒article MC）：用于芯片上微小顆粒的監(jiān)控，使用前其顆粒數(shù)應(yīng)小于10顆；b、卡盤顆粒控...

對(duì)準(zhǔn)對(duì)準(zhǔn)方法：a、預(yù)對(duì)準(zhǔn)，通過硅片上的notch或者flat進(jìn)行激光自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)；b、通過對(duì)準(zhǔn)標(biāo)志（Align Mark），位于切割槽（Scribe Line）上。另外層間對(duì)準(zhǔn)，即套刻精度（Overlay），保證圖形與硅片上已經(jīng)存在的圖形之間的對(duì)準(zhǔn)。曝光曝光中**...

e、光刻膠厚度控片（PhotoResist Thickness MC）：光刻膠厚度測(cè)量；f、光刻缺陷控片（PDM，Photo Defect Monitor）：光刻膠缺陷監(jiān)控。舉例：0.18μm的CMOS掃描步進(jìn)光刻工藝。光源：KrF氟化氪DUV光源（248nm...

西塞羅的著作《論共和國(guó)》，一本西元前一世紀(jì)的哲學(xué)對(duì)話錄，提及兩個(gè)現(xiàn)代被認(rèn)為是某種天象儀或太陽系儀的儀器，可以預(yù)測(cè)日月和五顆行星在天球的位置。這兩個(gè)儀器都是由阿基米德制造，在阿基米德于西元前212年的敘拉古圍城戰(zhàn)身亡后，這兩臺(tái)機(jī)器被羅馬將領(lǐng)馬庫(kù)斯·克勞迪烏斯·馬...

以適用于35毫米單鏡頭反光照相機(jī)的交換鏡頭為例，標(biāo)準(zhǔn)鏡頭通常是指焦距在40至55毫米之間的攝影鏡頭，它是所有鏡頭中**基本的一種攝影鏡頭。 標(biāo)準(zhǔn)鏡頭給人以記實(shí)性的視覺效果畫面，所以在實(shí)際的拍攝中，它的使用頻率是較高的。但是，從另一方面看，由于標(biāo)準(zhǔn)鏡頭的畫面效果...

半導(dǎo)體器件和集成電路對(duì)光刻曝光技術(shù)提出了越來越高的要求，在單位面積上要求完善傳遞圖像的信息量已接近常規(guī)光學(xué)的極限。光刻曝光的常用波長(zhǎng)是3650～4358 埃，預(yù)計(jì)實(shí)用分辨率約為1微米。幾何光學(xué)的原理，允許將波長(zhǎng)向下延伸至約2000埃的遠(yuǎn)紫外波長(zhǎng)，此時(shí)可達(dá)到的實(shí)...

⒊定焦廣角鏡頭一般都比涵蓋相應(yīng)焦距段的變焦鏡頭體積小，重量輕。這能使你的相機(jī)將不那么扎眼，便于抓拍。⒋廣角定焦鏡頭一般都比變焦鏡頭的廣角段成像好，這是鏡頭的設(shè)計(jì)所決定的，變焦鏡頭由于要考慮所有焦距段都有相對(duì)好的成像，就要**局部的利益讓整體有一個(gè)相對(duì)好的表現(xiàn)。...

⒊定焦廣角鏡頭一般都比涵蓋相應(yīng)焦距段的變焦鏡頭體積小，重量輕。這能使你的相機(jī)將不那么扎眼，便于抓拍。⒋廣角定焦鏡頭一般都比變焦鏡頭的廣角段成像好，這是鏡頭的設(shè)計(jì)所決定的，變焦鏡頭由于要考慮所有焦距段都有相對(duì)好的成像，就要**局部的利益讓整體有一個(gè)相對(duì)好的表現(xiàn)。...

長(zhǎng)焦距鏡頭是指比標(biāo)準(zhǔn)鏡頭的焦距長(zhǎng)的攝影鏡頭。長(zhǎng)焦距鏡頭分為普通遠(yuǎn)攝鏡頭和超遠(yuǎn)攝鏡頭兩類。普通遠(yuǎn)攝鏡頭的焦距長(zhǎng)度接近標(biāo)準(zhǔn)鏡頭，而超遠(yuǎn)攝鏡頭的焦距卻遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于標(biāo)準(zhǔn)鏡頭。以135照相機(jī)為例，其鏡頭焦距從85毫米-300毫米的攝影鏡頭為普通遠(yuǎn)攝鏡頭，300毫米以上的為超...

安提基特拉機(jī)械以其小型化和其部分裝置的復(fù)雜性可與19世紀(jì)機(jī)械鐘表相比而聞名。它有超過30個(gè)齒輪，雖然麥可·萊特認(rèn)為它可多達(dá)72個(gè)有正三角形齒的齒輪。當(dāng)借由一個(gè)曲柄輸入一個(gè)日期，該機(jī)械就可算出日月或行星等其他天**置。因?yàn)樵摍C(jī)械是以地球表面觀測(cè)天球者為參考座標(biāo)，...

德瑞克·約翰·德索拉·普萊斯提出該裝置可能是公開展示，地點(diǎn)或許是羅德島上的博物館或公共會(huì)堂。羅德島在當(dāng)時(shí)是以機(jī)械工程聞名，尤其是羅德島人擅長(zhǎng)的自動(dòng)機(jī)械。古希臘九大抒情詩(shī)人中的品達(dá)在他的第七首奧林匹克頌中提及：The animated figures stand...

極紫外光刻系統(tǒng)是采用13.5納米波長(zhǎng)極紫外光源的半導(dǎo)體制造**設(shè)備，可將芯片制程推進(jìn)至7納米、5納米及更先進(jìn)節(jié)點(diǎn)。該系統(tǒng)由荷蘭阿斯麥公司于2019年推出第五代產(chǎn)品，突破光學(xué)衍射極限，將摩爾定律物理極限推向新高度。2021年12月14日，中國(guó)工程院***發(fā)布的"...

浸沒式光刻技術(shù)所面臨的挑戰(zhàn)主要有：如何解決曝光中產(chǎn)生的氣泡和污染等缺陷的問題；研發(fā)和水具有良好的兼容性且折射率大于1．8的光刻膠的問題；研發(fā)折射率較大的光學(xué)鏡頭材料和浸沒液體材料；以 及 有 效 數(shù) 值 孔 徑NA值 的 拓 展 等 問題。針 對(duì) 這 些 難 ...

精密壓力表由測(cè)壓系統(tǒng)、傳動(dòng)機(jī)構(gòu)、指示裝置和外殼組成。精密壓力表的測(cè)壓彈性元件經(jīng)特殊工藝處理，使精密壓力表性能穩(wěn)定可靠，與高精度的傳動(dòng)機(jī)構(gòu)配套調(diào)試后，能確保精確的指示精度。精密壓力表主要用來校驗(yàn)工業(yè)用普通壓力表，精密壓力表也可在工藝現(xiàn)場(chǎng)精確的測(cè)量對(duì)銅合金和合金結(jié)...

按接口C型鏡頭法蘭焦距是安裝法蘭到入射鏡頭平行光的匯聚點(diǎn)之間的距離。法蘭焦距為17.526mm或0.690in。安裝羅紋為：直徑1in，32牙.in。鏡頭可以用在長(zhǎng)度為0.512in (13mm)以內(nèi)的線陣傳感器。但是，由于幾何變形和市場(chǎng)角特性，必須鑒別短焦鏡...

對(duì)于新影像的進(jìn)一步研究促使萊特提出新看法。首先他將普萊斯的模式進(jìn)一步發(fā)展，認(rèn)為該儀器相當(dāng)于一個(gè)天象儀。萊特的天象儀不只可模擬日月運(yùn)動(dòng)，還可顯示內(nèi)側(cè)行星（水星和金星）和外側(cè)行星（火星、木星和土星）的運(yùn)動(dòng)。萊特提出該機(jī)械的日月運(yùn)動(dòng)是基于喜帕恰斯的理論，五顆古典行星...

46、墊板墊板是介于固定板（或凹模）與模座間的淬硬板狀零件，用以減低模座承受的單位壓縮應(yīng)力。A.每使用1500-2000小時(shí)維護(hù)保養(yǎng)應(yīng)執(zhí)行項(xiàng)目:1.滑潤(rùn)油脂吐出油量及壓力檢知功能測(cè)試與調(diào)整.2.空氣系統(tǒng)之濾清器,給油器調(diào)整閥等功能及水份雜質(zhì)測(cè)試檢查與必要調(diào)整....

光學(xué)鏡頭是機(jī)器視覺系統(tǒng)中必不可少的部件，直接影響成像質(zhì)量的優(yōu)劣，影響算法的實(shí)現(xiàn)和效果。光學(xué)鏡頭從焦距上可分為短焦鏡頭、中焦鏡頭，長(zhǎng)焦鏡頭；從視場(chǎng)大小分為廣角、標(biāo)準(zhǔn)，遠(yuǎn)攝鏡頭；從結(jié)構(gòu)上分為固定光圈定焦鏡頭，手動(dòng)光圈定焦鏡頭，自動(dòng)光圈定焦鏡頭，手動(dòng)變焦鏡頭、自動(dòng)變...

手動(dòng)光圈變焦鏡頭焦距可變的，有一個(gè)焦距調(diào)整環(huán)，可以在一定范圍內(nèi)調(diào)整鏡頭的焦距，其可變比一般為2 ～3倍，焦距一般為3.6~8mm。實(shí)際應(yīng)用中，可通過手動(dòng)調(diào)節(jié)鏡頭的變焦環(huán)，可以方便地選擇被監(jiān)視地市場(chǎng)的市場(chǎng)角。但是當(dāng)攝像機(jī)安裝位置固定下以后，在頻繁地手動(dòng)調(diào)整變焦是...

對(duì)于新影像的進(jìn)一步研究促使萊特提出新看法。首先他將普萊斯的模式進(jìn)一步發(fā)展，認(rèn)為該儀器相當(dāng)于一個(gè)天象儀。萊特的天象儀不只可模擬日月運(yùn)動(dòng)，還可顯示內(nèi)側(cè)行星（水星和金星）和外側(cè)行星（火星、木星和土星）的運(yùn)動(dòng)。萊特提出該機(jī)械的日月運(yùn)動(dòng)是基于喜帕恰斯的理論，五顆古典行星...

掃描投影曝光（Scanning Project Printing）。70年代末～80年代初，〉1μm工藝；掩膜板1：1，全尺寸；步進(jìn)重復(fù)投影曝光（Stepping-repeating Project Printing或稱作Stepper）。80年代末～90年代...

定焦鏡頭（prime lens）是指只有一個(gè)固定焦距的鏡頭，沒有焦段一說，或者說只有一個(gè)視野。定焦鏡頭沒有變焦功能。 [1]定焦鏡頭的設(shè)計(jì)相對(duì)變焦鏡頭而言要簡(jiǎn)單得多，但一般變焦鏡頭在變焦過程中對(duì)成像會(huì)有所影響，而定焦鏡頭相對(duì)于變焦機(jī)器的比較大好處就是對(duì)焦速度快...