⒉較小的畸變：畸變是變焦鏡頭比較大的軟肋，幾乎所有涉及廣角的變焦鏡頭都存在明顯的畸變問題，而定焦鏡頭因為只需對一個焦段的成像進行糾正與優(yōu)化，所以往往很少會出現(xiàn)畸變現(xiàn)象。另外值得一提的是，旁軸相機在廣角畸變上比單反相機有天生優(yōu)勢，例如15mm/f4.5等超廣角鏡...

⒉較小的畸變：畸變是變焦鏡頭比較大的軟肋，幾乎所有涉及廣角的變焦鏡頭都存在明顯的畸變問題，而定焦鏡頭因為只需對一個焦段的成像進行糾正與優(yōu)化，所以往往很少會出現(xiàn)畸變現(xiàn)象。另外值得一提的是，旁軸相機在廣角畸變上比單反相機有天生優(yōu)勢，例如15mm/f4.5等超廣角鏡...

英特爾高級研究員兼技術(shù)和制造部先進光刻技術(shù)總監(jiān)YanBorodovsky在去年說過“針對未來的IC設(shè)計，我認為正確的方向是具有互補性的光刻技術(shù)。193納米光刻是當前能力**強且**成熟的技術(shù)，能夠滿足精確度和成本要求，但缺點是分辨率低。利用一種新技術(shù)作為193...

放大率問題：光學(xué)鏡頭放大率問題，很多客戶可能對鏡頭放大率不了解或者認識不多，所以造成了對鏡頭使用的錯誤操作或者選購不到合適的鏡頭，因此，普密斯光學(xué)針對這一問題進行專業(yè)的講述，希望可以幫助大家更好的理解鏡頭參數(shù)問題。放 大 率 光學(xué)放大率影像大小相對于物體的放大...

入門的定焦鏡頭當然以50為優(yōu)先。古典的三鏡組合是這樣子的：35、50、135，有了這三個鏡頭，足可應(yīng)付大多數(shù)的場合需要。日后若有需要，再作擴充。定焦鏡頭另外提供幾個不同的組合給大家參考。愛拍風(fēng)景的人可以考慮的三鏡組合為24、35（用35代替50）、135。愛拍...

b、接近式曝光（Proximity Printing）。掩膜板與光刻膠層的略微分開，大約為10～50μm?？梢员苊馀c光刻膠直接接觸而引起的掩膜板損傷。但是同時引入了衍射效應(yīng)，降低了分辨率。1970后適用，但是其最大分辨率*為2～4μm。c、投影式曝光（Proj...

得指出的是，EUV光刻技術(shù)的研發(fā)始于20世紀80年代。**早希望在半周期為70nm的節(jié)點（對應(yīng)邏輯器件130nm節(jié)點）就能用上EUV光刻機 [1]?？墒?，這一技術(shù)一直達不到晶圓廠量產(chǎn)光刻所需要的技術(shù)指標和產(chǎn)能要求。一拖再拖，直到2016年，EUV光刻機仍然沒能...

自動精密沖床是一種用于金屬沖壓成型的工業(yè)設(shè)備，主要應(yīng)用于汽車、電子、五金制造等領(lǐng)域，可適配自動化送料系統(tǒng)實現(xiàn)高效生產(chǎn)。其機身采用鋼板焊接結(jié)構(gòu)并經(jīng)過熱處理，具有高剛性和穩(wěn)定性。設(shè)備**部件包含曲軸、齒輪軸等硬化研磨組件，結(jié)合重心平衡設(shè)計保障沖壓精度。配置雙聯(lián)電磁...

邊緣光刻膠的去除光刻膠涂覆后，在硅片邊緣的正反兩面都會有光刻膠的堆積。邊緣的光刻膠一般涂布不均勻，不能得到很好的圖形，而且容易發(fā)生剝離（Peeling）而影響其它部分的圖形。所以需要去除。方法：a、化學(xué)的方法（Chemical EBR）。軟烘后，用PGMEA或...

光刻機系統(tǒng)是材料科學(xué)領(lǐng)域的關(guān)鍵設(shè)備，通過光學(xué)成像原理將掩模版上的微細圖形精確轉(zhuǎn)移到光刻膠表面。系統(tǒng)配置1Kw近紫外光源與6V/30W顯微鏡燈適配器，配備氣動防震臺保障精密操作環(huán)境，其技術(shù)參數(shù)截至2020年11月24日仍在使用 [1]。通過光化學(xué)反應(yīng)將掩模版上的...

38、卸料螺釘卸料螺釘是固定在彈壓卸料板上的螺釘，用于限制彈壓卸料板的靜止位置。39、單工序模單工序模是在壓力機一次行程中只完成一道工序的沖模。40、廢料切刀廢料切刀有兩種。1．裝于拉深件凸緣切邊模上用于割斷整圈切邊廢料以利***的切刀。2．裝于壓力機或模具上...

光刻是平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個主要工藝。是對半導(dǎo)體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進行開孔，以便進行雜質(zhì)的定域擴散的一種加工技術(shù)。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕、檢測等工序。硅片清洗烘干方...

b、堅膜，以提高光刻膠在離子注入或刻蝕中保護下表面的能力；c、進一步增強光刻膠與硅片表面之間的黏附性；d、進一步減少駐波效應(yīng)（Standing Wave Effect）。常見問題：a、烘烤不足（Underbake）。減弱光刻膠的強度（抗刻蝕能力和離子注入中的阻...

入門的定焦鏡頭當然以50為優(yōu)先。古典的三鏡組合是這樣子的：35、50、135，有了這三個鏡頭，足可應(yīng)付大多數(shù)的場合需要。日后若有需要，再作擴充。定焦鏡頭另外提供幾個不同的組合給大家參考。愛拍風(fēng)景的人可以考慮的三鏡組合為24、35（用35代替50）、135。愛拍...

●高剛性高剛性、高精密的構(gòu)架，采用鋼板焊接，并經(jīng)熱處理、消除床身內(nèi)應(yīng)力。●重心平衡1．傳動中心與機器整體的中心趨于一致，確保沖壓的精確、穩(wěn)定?！癫僮鞣€(wěn)定、安全離合器/剎車器裝置高度靈敏，再加國際前列的雙聯(lián)電磁閥和過負荷保護裝置，確保沖床滑塊運轉(zhuǎn)及停止的精確性與...

6.齒輪傳動箱上蓋拆卸,內(nèi)部機件磨損及鍵位松動狀況之檢查并進行油槽清洗,潤滑油換新及運轉(zhuǎn)狀況,噪音,振動測試檢查.7.傳動系統(tǒng)各部位注油點之吐出油量及壓力測試與調(diào)整.8.離剎機構(gòu)之活塞動作,剎車角度,離剎間隙及來令片磨耗量之測試點檢與必要調(diào)整.9.滑快導(dǎo)軌與導(dǎo)...

38、卸料螺釘卸料螺釘是固定在彈壓卸料板上的螺釘，用于限制彈壓卸料板的靜止位置。39、單工序模單工序模是在壓力機一次行程中只完成一道工序的沖模。40、廢料切刀廢料切刀有兩種。1．裝于拉深件凸緣切邊模上用于割斷整圈切邊廢料以利***的切刀。2．裝于壓力機或模具上...

英特爾高級研究員兼技術(shù)和制造部先進光刻技術(shù)總監(jiān)YanBorodovsky在去年說過“針對未來的IC設(shè)計，我認為正確的方向是具有互補性的光刻技術(shù)。193納米光刻是當前能力**強且**成熟的技術(shù)，能夠滿足精確度和成本要求，但缺點是分辨率低。利用一種新技術(shù)作為193...

在曝光過程中，需要對不同的參數(shù)和可能缺陷進行跟蹤和控制，會用到檢測控制芯片/控片（Monitor Chip）。根據(jù)不同的檢測控制對象，可以分為以下幾種：a、顆?？仄≒article MC）：用于芯片上微小顆粒的監(jiān)控，使用前其顆粒數(shù)應(yīng)小于10顆；b、卡盤顆?？?..

糾偏裝置（Deviation rectifying device）是由美國美塞斯公司旗下FIFE品牌于1898年發(fā)明的機械裝置，主要用于修正卷材在傳輸過程中產(chǎn)生的橫向偏移。作為工業(yè)生產(chǎn)中的基礎(chǔ)設(shè)備，其通過傳感器檢測與驅(qū)動系統(tǒng)聯(lián)動形成閉環(huán)控制，支持跟邊、對中、跟...

由英國、希臘和美國**組成的安提基特拉機械研究計劃成員于2008年7月時，在機械上的一個青銅轉(zhuǎn)盤發(fā)現(xiàn)了一個字 "Olympia"，相信是用來指示卡利巴斯周期（Callippic cycle）；另外也發(fā)現(xiàn)了其他古希臘競賽的名字，因此這可能是用來追蹤古代奧林匹克運...

半導(dǎo)體器件和集成電路對光刻曝光技術(shù)提出了越來越高的要求，在單位面積上要求完善傳遞圖像的信息量已接近常規(guī)光學(xué)的極限。光刻曝光的常用波長是3650～4358 埃，預(yù)計實用分辨率約為1微米。幾何光學(xué)的原理，允許將波長向下延伸至約2000埃的遠紫外波長，此時可達到的實...

25.模墊拆卸分解及清潔檢查各磨耗面與重新涂抹潤滑脂后組裝試車.1、沖床工必須經(jīng)過學(xué)習(xí)，掌握沖床的結(jié)構(gòu)、性能，熟悉操作規(guī)程并取得操作許可方可**操作。2、正確使用沖床上安全保護和控制裝置，不得任意拆動。3、檢查沖床各傳動、連接、潤滑等部位及防護保險裝置是否正常...

為把193i技術(shù)進一步推進到32和22nm的技術(shù)節(jié)點上，光刻**一直在尋找新的技術(shù)，在沒有更好的新光刻技術(shù)出現(xiàn)前，兩次曝光技術(shù)（或者叫兩次成型技術(shù)，DPT）成為人們關(guān) 注 的 熱 點。ArF浸沒式兩次曝光技術(shù)已被業(yè)界認為是32nm節(jié)點相當有競爭力的技術(shù)；在更低...

28、頂板頂板是在凹?；蚰K內(nèi)活動的板狀零件，以向上動作直接或間接頂出工（序）件或廢料。29、齒圈齒圈是精沖凹?；驇X壓料板上的成圈齒形突起，是凹模或帶齒壓料板的局部結(jié)構(gòu)而不是單獨的零件。30、限位套限位套是用于限制沖模**小閉合高度的管狀零件，一般套于導(dǎo)柱外...

22、壓料檻壓料檻是斷面呈矩形的壓料筋特稱。參閱“壓料筋”。23、承料板承料板是用于接長凹模上平面，承托沖壓材料的板狀零件。24、連續(xù)模連續(xù)模是具有兩個或更多工位的沖模，材料隨壓力機行程逐次送進一工位，從而使沖件逐步成形。25、側(cè)刃側(cè)刃是在條（帶、卷）料側(cè)面切...

定焦鏡頭的好處，主要體現(xiàn)在短焦段的使用上：⒈定焦的廣角或標準鏡頭一般都比涵蓋相應(yīng)焦距段的變焦鏡頭口徑大。一般的定焦廣角和中焦鏡頭的光圈都在2.8以上，通光量大，便于在低照度情況下拍攝。定焦鏡頭⒉定焦的廣角鏡頭一般都比涵蓋相應(yīng)焦距段的變焦鏡頭**短對焦距離近。比...

b、堅膜，以提高光刻膠在離子注入或刻蝕中保護下表面的能力；c、進一步增強光刻膠與硅片表面之間的黏附性；d、進一步減少駐波效應(yīng)（Standing Wave Effect）。常見問題：a、烘烤不足（Underbake）。減弱光刻膠的強度（抗刻蝕能力和離子注入中的阻...

涂底方法：a、氣相成底膜的熱板涂底。HMDS蒸氣淀積，200～250C,30秒鐘；優(yōu)點：涂底均勻、避免顆粒污染；b、旋轉(zhuǎn)涂底。缺點：顆粒污染、涂底不均勻、HMDS用量大。目的：使表面具有疏水性，增強基底表面與光刻膠的黏附性旋轉(zhuǎn)涂膠方法：a、靜態(tài)涂膠（Stati...

后烘方法：熱板，110～130C,1分鐘。目的：a、減少駐波效應(yīng)；b、激發(fā)化學(xué)增強光刻膠的PAG產(chǎn)生的酸與光刻膠上的保護基團發(fā)生反應(yīng)并移除基團使之能溶解于顯影液。顯影方法：a、整盒硅片浸沒式顯影（Batch Development）。缺點：顯影液消耗很大；顯影...