商用或家用數(shù)碼相機(jī)的鏡頭，部分廠家采用了相對(duì)比較好的鏡頭。富士相機(jī)采用了170線/毫米解析度的專業(yè)富士龍鏡頭，這種內(nèi)置的新型富士龍鏡頭比大多數(shù)SLR鏡頭更清晰。不僅在精度上保證了圖象拍攝的品質(zhì)，而且其鏡頭錯(cuò)誤率也達(dá)到令人驚異的0.3%, 較一般的數(shù)碼相機(jī)低2/...

安提基特拉機(jī)械以其小型化和其部分裝置的復(fù)雜性可與19世紀(jì)機(jī)械鐘表相比而聞名。它有超過(guò)30個(gè)齒輪，雖然麥可·萊特認(rèn)為它可多達(dá)72個(gè)有正三角形齒的齒輪。當(dāng)借由一個(gè)曲柄輸入一個(gè)日期，該機(jī)械就可算出日月或行星等其他天**置。因?yàn)樵摍C(jī)械是以地球表面觀測(cè)天球者為參考座標(biāo)，...

選購(gòu)廣角數(shù)碼相機(jī)時(shí)除了要注意相機(jī)的整體性能外，還需要著重考察其鏡頭表現(xiàn)。鏡頭畸變情況是我們首先需要考慮的因素。一般來(lái)說(shuō)廣角下拍攝更容易產(chǎn)生畸變，但不同的相機(jī)所拍攝的照片變形的程度也不同，總體而言畸變?cè)捷p微越好。其次也要注意畫(huà)面的解析度，由于受到成本的限制，數(shù)碼...

自動(dòng)精密沖床是一種用于金屬?zèng)_壓成型的工業(yè)設(shè)備，主要應(yīng)用于汽車、電子、五金制造等領(lǐng)域，可適配自動(dòng)化送料系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)高效生產(chǎn)。其機(jī)身采用鋼板焊接結(jié)構(gòu)并經(jīng)過(guò)熱處理，具有高剛性和穩(wěn)定性。設(shè)備**部件包含曲軸、齒輪軸等硬化研磨組件，結(jié)合重心平衡設(shè)計(jì)保障沖壓精度。配置雙聯(lián)電磁...

得指出的是，EUV光刻技術(shù)的研發(fā)始于20世紀(jì)80年代。**早希望在半周期為70nm的節(jié)點(diǎn)（對(duì)應(yīng)邏輯器件130nm節(jié)點(diǎn)）就能用上EUV光刻機(jī) [1]。可是，這一技術(shù)一直達(dá)不到晶圓廠量產(chǎn)光刻所需要的技術(shù)指標(biāo)和產(chǎn)能要求。一拖再拖，直到2016年，EUV光刻機(jī)仍然沒(méi)能...

精密壓力表由測(cè)壓系統(tǒng)、傳動(dòng)機(jī)構(gòu)、指示裝置和外殼組成。精密壓力表的測(cè)壓彈性元件經(jīng)特殊工藝處理，使精密壓力表性能穩(wěn)定可靠，與高精度的傳動(dòng)機(jī)構(gòu)配套調(diào)試后，能確保精確的指示精度。精密壓力表主要用來(lái)校驗(yàn)工業(yè)用普通壓力表，精密壓力表也可在工藝現(xiàn)場(chǎng)精確的測(cè)量對(duì)銅合金和合金結(jié)...

b、接近式曝光（Proximity Printing）。掩膜板與光刻膠層的略微分開(kāi)，大約為10～50μm?？梢员苊馀c光刻膠直接接觸而引起的掩膜板損傷。但是同時(shí)引入了衍射效應(yīng)，降低了分辨率。1970后適用，但是其最大分辨率*為2～4μm。c、投影式曝光（Proj...

EUV光刻技術(shù)的發(fā)展能否趕得上集成電路制造技術(shù)的要求？這仍然是一個(gè)問(wèn)題。當(dāng)然，EUV光刻技術(shù)的進(jìn)步也是巨大的。截止2016年，用于研發(fā)和小批量試產(chǎn)的EUV光刻機(jī)，已經(jīng)被安裝在晶圓廠，并投入使用 [1]。EUV光刻所能提供的高分辨率已經(jīng)被實(shí)驗(yàn)所證實(shí)。光刻機(jī)供應(yīng)商...

以適用于35毫米單鏡頭反光照相機(jī)的交換鏡頭為例，魚(yú)眼鏡頭是一種焦距約在6-16毫米之間的短焦距超廣角攝影鏡頭，“魚(yú)眼鏡頭”是它的俗稱。為使鏡頭達(dá)到比較大的攝影視角，這種攝影鏡頭的前鏡片直徑且呈拋物狀向鏡頭前部凸出，與魚(yú)的眼睛頗為相似，“魚(yú)眼鏡頭”因此而得名。魚(yú)...

商用或家用數(shù)碼相機(jī)的鏡頭，部分廠家采用了相對(duì)比較好的鏡頭。富士相機(jī)采用了170線/毫米解析度的專業(yè)富士龍鏡頭，這種內(nèi)置的新型富士龍鏡頭比大多數(shù)SLR鏡頭更清晰。不僅在精度上保證了圖象拍攝的品質(zhì)，而且其鏡頭錯(cuò)誤率也達(dá)到令人驚異的0.3%, 較一般的數(shù)碼相機(jī)低2/...

安提基特拉機(jī)械，是為了計(jì)算天體在天空中的位置而設(shè)計(jì)的古希臘青銅機(jī)器，屬于模擬計(jì)算機(jī)。該機(jī)器于1900年在希臘安提基特拉島附近的安提基特拉沉船里被發(fā)現(xiàn)。制造年代約在西元前150年到100年之間?，F(xiàn)藏于希臘國(guó)家考古博物館。 [4]類似的工藝技術(shù)（天文鐘）在歐洲直到...

由于193nm沉浸式工藝的延伸性非常強(qiáng)，同時(shí)EUV技術(shù)耗資巨大進(jìn)展緩慢。EUV（極紫外線光刻技術(shù)）是下一代光刻技術(shù)（<32nm節(jié)點(diǎn)的光刻技術(shù)）。它是采用波長(zhǎng)為13.4nm的軟x射線進(jìn)行光刻的技術(shù)。EUV光刻的基本設(shè)備方面仍需開(kāi)展大量開(kāi)發(fā)工作以達(dá)到適于量產(chǎn)的成熟...

光刻系統(tǒng)是一種用于半導(dǎo)體器件制造的精密科學(xué)儀器，是制備高性能光電子和微電子器件不可或缺的**工藝設(shè)備 [1] [6-7]。其技術(shù)發(fā)展歷經(jīng)紫外（UV）、深紫外（DUV）到極紫外（EUV）階段，推動(dòng)集成電路制程不斷進(jìn)步 [3] [6]。當(dāng)前**的EUV光刻系統(tǒng)已實(shí)...

鏡頭的改變：在相同物距 和光圈的情況下，使用不同焦距的鏡頭可改變景深，鏡頭焦距越短，**深越大，對(duì)于超廣角鏡（8---15毫米），景深非常大，以致無(wú)需調(diào)焦，因?yàn)槊恳患?jí)光圈的景深都是清晰。光學(xué)工業(yè)鏡頭***用于反射度極高的物體定位檢測(cè)，如：金屬、玻璃、膠片、晶片...

邊緣光刻膠的去除光刻膠涂覆后，在硅片邊緣的正反兩面都會(huì)有光刻膠的堆積。邊緣的光刻膠一般涂布不均勻，不能得到很好的圖形，而且容易發(fā)生剝離（Peeling）而影響其它部分的圖形。所以需要去除。方法：a、化學(xué)的方法（Chemical EBR）。軟烘后，用PGMEA或...

在拍攝廣闊的大場(chǎng)面時(shí)，攝影者一般都依靠廣角鏡頭焦距短，表現(xiàn)的景物景深長(zhǎng)的特點(diǎn)，將從近到遠(yuǎn)的整個(gè)景物都納入清晰表現(xiàn)的范圍。此外，用廣角鏡頭拍攝時(shí)，如果同時(shí)采用較小的光圈，則景物的景深就會(huì)變得更長(zhǎng)。例如，攝影者用一個(gè)28毫米的廣角鏡頭拍攝，焦點(diǎn)對(duì)在約3米左右的被攝...

光致抗蝕劑，簡(jiǎn)稱光刻膠或抗蝕劑，指光照后能改變抗蝕能力的高分子化合物。光蝕劑分為兩大類。①正性光致抗蝕劑：受光照部分發(fā)生降解反應(yīng)而能為顯影液所溶解。留下的非曝光部分的圖形與掩模版一致。正性抗蝕劑具有分辨率高、對(duì)駐波效應(yīng)不敏感、曝光容限大、***密度低和無(wú)毒性等...

光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑，是指通過(guò)紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹(shù)脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對(duì)光敏感的混合液體。在光刻工藝過(guò)程中，用作抗腐蝕涂層材料。半導(dǎo)體材料在表面加工時(shí)...

兩種工藝常規(guī)光刻技術(shù)是采用波長(zhǎng)為2000～4500埃的紫外光作為圖像信息載體，以光致抗蝕劑為中間（圖像記錄）媒介實(shí)現(xiàn)圖形的變換、轉(zhuǎn)移和處理，**終把圖像信息傳遞到晶片(主要指硅片)或介質(zhì)層上的一種工藝。在廣義上，它包括光復(fù)印和刻蝕工藝兩個(gè)主要方面。①光復(fù)印工藝...

在曝光過(guò)程中，需要對(duì)不同的參數(shù)和可能缺陷進(jìn)行跟蹤和控制，會(huì)用到檢測(cè)控制芯片/控片（Monitor Chip）。根據(jù)不同的檢測(cè)控制對(duì)象，可以分為以下幾種：a、顆?？仄≒article MC）：用于芯片上微小顆粒的監(jiān)控，使用前其顆粒數(shù)應(yīng)小于10顆；b、卡盤(pán)顆粒控...

e、光刻膠厚度控片（PhotoResist Thickness MC）：光刻膠厚度測(cè)量；f、光刻缺陷控片（PDM，Photo Defect Monitor）：光刻膠缺陷監(jiān)控。舉例：0.18μm的CMOS掃描步進(jìn)光刻工藝。光源：KrF氟化氪DUV光源（248nm...

1902年5月17日，考古學(xué)家維拉理奧斯·史大理斯檢查發(fā)現(xiàn)的沉船中物品時(shí)發(fā)現(xiàn)一個(gè)齒輪嵌在一塊巖石中。 [1]史大理斯一開(kāi)始認(rèn)為這是天文鐘，但多數(shù)學(xué)者認(rèn)為這是時(shí)代錯(cuò)誤，這物品和同時(shí)期發(fā)現(xiàn)的其他東西相較之下太過(guò)復(fù)雜。對(duì)該物品調(diào)查的熱潮很快下降，直到1951年英國(guó)物...

使用長(zhǎng)焦鏡頭拍攝時(shí)，測(cè)光比較好采用機(jī)內(nèi)TTL測(cè)光方式。因?yàn)?，普通的入射式或反射式測(cè)光表的受光角往往大于鏡頭視角，直接按測(cè)光表數(shù)值曝光會(huì)出現(xiàn)偏差 [6]。1、使用較高快門(mén)速度高速快門(mén)可以降低或避免相機(jī)抖動(dòng)造成的圖像發(fā)虛。尤其是手持相機(jī)時(shí)，應(yīng)首先考慮通過(guò)提高快門(mén)速...

極紫外光刻系統(tǒng)是采用13.5納米波長(zhǎng)極紫外光源的半導(dǎo)體制造**設(shè)備，可將芯片制程推進(jìn)至7納米、5納米及更先進(jìn)節(jié)點(diǎn)。該系統(tǒng)由荷蘭阿斯麥公司于2019年推出第五代產(chǎn)品，突破光學(xué)衍射極限，將摩爾定律物理極限推向新高度。2021年12月14日，中國(guó)工程院***發(fā)布的"...

現(xiàn)代學(xué)者的共識(shí)是該機(jī)械是在希臘語(yǔ)使用區(qū)域制造，所有機(jī)械上組件的文字都是通用希臘語(yǔ)。一種假說(shuō)認(rèn)為，該機(jī)械是在希臘當(dāng)時(shí)的天文和機(jī)械工程中心羅德島上的斯多亞學(xué)派學(xué)者波希多尼制造，而天文學(xué)家喜帕恰斯參與了設(shè)計(jì)，因?yàn)樵摍C(jī)械采用了喜帕恰斯的月球運(yùn)動(dòng)理論。但由安提基特拉機(jī)械...

英特爾高級(jí)研究員兼技術(shù)和制造部先進(jìn)光刻技術(shù)總監(jiān)YanBorodovsky在去年說(shuō)過(guò)“針對(duì)未來(lái)的IC設(shè)計(jì)，我認(rèn)為正確的方向是具有互補(bǔ)性的光刻技術(shù)。193納米光刻是當(dāng)前能力**強(qiáng)且**成熟的技術(shù)，能夠滿足精確度和成本要求，但缺點(diǎn)是分辨率低。利用一種新技術(shù)作為193...

普萊斯在以上文章中發(fā)表的模式是較早基于放射影像所見(jiàn)該機(jī)械內(nèi)部結(jié)構(gòu)之后，提出的較早理論重建模式。他的模式中，機(jī)械前方的轉(zhuǎn)盤(pán)**太陽(yáng)和月球在古埃及歷法上黃道帶的位置。在儀器后面的上方轉(zhuǎn)盤(pán)則顯示一個(gè)四年周期，并且和顯示周期為235個(gè)朔望月的默冬章相關(guān)，這和19個(gè)回歸...

目前，安提基特拉機(jī)械已被基本復(fù)原。 [5]以下是托尼·弗里思研究團(tuán)隊(duì)的***復(fù)原成果。安提基特拉裝置的制作者無(wú)論使用什么周期數(shù)據(jù)，都需要遵循三個(gè)標(biāo)準(zhǔn)：精確性、可分解性與經(jīng)濟(jì)性。簡(jiǎn)省且高效，是安提基特拉裝置齒輪傳動(dòng)系統(tǒng)的一個(gè)關(guān)鍵特征。新的行星周期數(shù)據(jù)可以納入齒輪...

特點(diǎn)長(zhǎng)焦鏡頭以適用于35毫米單鏡頭反光照相機(jī)的交換鏡頭為例，遠(yuǎn)攝鏡頭通常是指焦距約在80至400毫米之間的攝影鏡頭。遠(yuǎn)攝鏡頭**基本的特點(diǎn)是，鏡頭視角小，所以視野范圍相對(duì)狹窄；能把遠(yuǎn)處的景物拉近，使之充滿畫(huà)面，具有“望遠(yuǎn)”的功能，從而使景物的遠(yuǎn)近感消失；縮短了...

EUV光刻系統(tǒng)的發(fā)展歷經(jīng)應(yīng)用基礎(chǔ)研究至量產(chǎn)四個(gè)階段，其突破得益于多元主體協(xié)同創(chuàng)新和全產(chǎn)業(yè)鏈資源整合 [3]。截至2024年12月，EUV技術(shù)已應(yīng)用于2nm芯片量產(chǎn)，但仍需優(yōu)化光源和光刻膠性能。下一代技術(shù)如納米壓印和定向自組裝正在研發(fā)中 [6]。**光刻系統(tǒng)主要...