光刻機系統(tǒng)是材料科學(xué)領(lǐng)域的關(guān)鍵設(shè)備，通過光學(xué)成像原理將掩模版上的微細(xì)圖形精確轉(zhuǎn)移到光刻膠表面。系統(tǒng)配置1Kw近紫外光源與6V/30W顯微鏡燈適配器，配備氣動防震臺保障精密操作環(huán)境，其技術(shù)參數(shù)截至2020年11月24日仍在使用 [1]。通過光化學(xué)反應(yīng)將掩模版上的...

涂底方法：a、氣相成底膜的熱板涂底。HMDS蒸氣淀積，200～250C,30秒鐘；優(yōu)點：涂底均勻、避免顆粒污染；b、旋轉(zhuǎn)涂底。缺點：顆粒污染、涂底不均勻、HMDS用量大。目的：使表面具有疏水性，增強基底表面與光刻膠的黏附性旋轉(zhuǎn)涂膠方法：a、靜態(tài)涂膠（Stati...

所有實際電子束曝光、顯影后圖形的邊緣要往外擴展，這就是所謂的“電子束鄰近效應(yīng)。同時，半導(dǎo)體基片上如果有絕緣的介質(zhì)膜，電子通過它時也會產(chǎn)生一定量的電荷積累，這些積累的電荷同樣會排斥后續(xù)曝光的電子，產(chǎn)生偏移，而不導(dǎo)電的絕緣體（如玻璃片）肯定不能采用電子束曝光。還有...

38、卸料螺釘卸料螺釘是固定在彈壓卸料板上的螺釘，用于限制彈壓卸料板的靜止位置。39、單工序模單工序模是在壓力機一次行程中只完成一道工序的沖模。40、廢料切刀廢料切刀有兩種。1．裝于拉深件凸緣切邊模上用于割斷整圈切邊廢料以利***的切刀。2．裝于壓力機或模具上...

光刻系統(tǒng)SUSS是一種應(yīng)用于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的工藝試驗儀器，其比較大基片尺寸為6英寸，可實現(xiàn)0.5μm的分辨率和1μm的**小線寬 [1]。該系統(tǒng)通過精密光學(xué)曝光技術(shù)完成微電子器件的圖形轉(zhuǎn)移，為集成電路研發(fā)和生產(chǎn)提供關(guān)鍵工藝支持。比較大基片處理能力：支持直徑6英...

主要技術(shù)指標(biāo)：○精密壓力表測量范圍、精確度等級○型號、彈簧管材料、測量范圍MPa、精確度等級、結(jié)構(gòu)特點○精密壓力表使用環(huán)境條件：5～40℃，相對濕度不大于80%，且環(huán)境震動和壓力源的波動對儀表的精確讀數(shù)無影響?！鹁軌毫Ρ頊囟扔绊懀菏褂铆h(huán)境溫度如偏離20±3℃...

③縮短圖像傳遞鏈，減少工藝上造成的缺陷和誤差，可獲得很高的成品率。④采用精密自動調(diào)焦技術(shù)，避免高溫工藝引起的晶片變形對成像質(zhì)量的影響。⑤采用原版自動選擇機構(gòu)（版庫），不但有利于成品率的提高，而且成為能靈活生產(chǎn)多電路組合的常規(guī)曝光系統(tǒng)。浸入式光刻技術(shù)原理這種系統(tǒng)...

手動光圈定焦鏡頭手動光圈定焦鏡頭比固定光圈定焦鏡頭增加了光圈調(diào)整環(huán)，光圈范圍一般從F1.2或F1.4到全關(guān)閉，能方便地適應(yīng)被被攝現(xiàn)場地光照度，光圈調(diào)整是通過手動人為進行的。光照度比較均勻，價格較便宜。自動光圈定焦鏡頭在手動光圈定焦鏡頭的光圈調(diào)整環(huán)上增加一個齒輪...

光刻系統(tǒng)SUSS是一種應(yīng)用于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的工藝試驗儀器，其比較大基片尺寸為6英寸，可實現(xiàn)0.5μm的分辨率和1μm的**小線寬 [1]。該系統(tǒng)通過精密光學(xué)曝光技術(shù)完成微電子器件的圖形轉(zhuǎn)移，為集成電路研發(fā)和生產(chǎn)提供關(guān)鍵工藝支持。比較大基片處理能力：支持直徑6英...

邊緣光刻膠的去除光刻膠涂覆后，在硅片邊緣的正反兩面都會有光刻膠的堆積。邊緣的光刻膠一般涂布不均勻，不能得到很好的圖形，而且容易發(fā)生剝離（Peeling）而影響其它部分的圖形。所以需要去除。方法：a、化學(xué)的方法（Chemical EBR）。軟烘后，用PGMEA或...

極紫外光刻（Extreme Ultra-violet），常稱作EUV光刻，它以波長為10-14納米的極紫外光作為光源的光刻技術(shù)。具體為采用波長為13.4nm 的紫外線。極紫外線就是指需要通過通電激發(fā)紫外線管的K極然后放射出紫外線。極紫外光刻（英語：Extrem...

2.該機械有一個刻上至少2000個字母的蓋子，因此安提基特拉機械研究計劃的人員經(jīng)常認(rèn)為這是儀器說明書。這**是為了便于攜帶和個人使用。3.“說明書”的存在**該裝置是科學(xué)家和工程師設(shè)計作為非專業(yè)的旅行者使用。（記載文字有許多關(guān)于地中海的地理位置資訊）該機械不太...

決定光刻膠涂膠厚度的關(guān)鍵參數(shù)：光刻膠的黏度（Viscosity），黏度越低，光刻膠的厚度越??；旋轉(zhuǎn)速度，速度越快，厚度越薄；影響光刻膠均勻性的參數(shù)：旋轉(zhuǎn)加速度，加速越快越均勻；與旋轉(zhuǎn)加速的時間點有關(guān)。一般旋涂光刻膠的厚度與曝光的光源波長有關(guān)（因為不同級別的曝光...

28、頂板頂板是在凹模或模塊內(nèi)活動的板狀零件，以向上動作直接或間接頂出工（序）件或廢料。29、齒圈齒圈是精沖凹?；驇X壓料板上的成圈齒形突起，是凹模或帶齒壓料板的局部結(jié)構(gòu)而不是單獨的零件。30、限位套限位套是用于限制沖模**小閉合高度的管狀零件，一般套于導(dǎo)柱外...

廣角鏡頭又稱短鏡頭。攝影輔助鏡頭的一種。鏡頭焦距***地小于像場直徑(底片對角線長度)，約為6～35毫米;視角大于標(biāo)準(zhǔn)鏡頭，約為53°以上直至220°。相對口徑一般較小。廣角透鏡在十九世紀(jì)六十年代快直光鏡頭出現(xiàn)后即產(chǎn)生，此后經(jīng)種種演變，已成攝影鏡頭中一個重要類...

19.超負(fù)荷保護裝置之油路清潔,油室清洗,油品換新及壓力動作與功能測試調(diào)整.20.主馬達(dá)V型皮帶磨耗及張力狀況檢查,調(diào)整.21.離剎機構(gòu)各部件拆卸分解(飛輪不含)清潔保養(yǎng),間隙檢查調(diào)整及裝復(fù)調(diào)試.22.平衡器另部件拆卸分解,清潔檢查及裝復(fù)調(diào)試.C.每使用600...

由英國、希臘和美國**組成的安提基特拉機械研究計劃成員于2008年7月時，在機械上的一個青銅轉(zhuǎn)盤發(fā)現(xiàn)了一個字 "Olympia"，相信是用來指示卡利巴斯周期（Callippic cycle）；另外也發(fā)現(xiàn)了其他古希臘競賽的名字，因此這可能是用來追蹤古代奧林匹克運...

集成電路制造中利用光學(xué)- 化學(xué)反應(yīng)原理和化學(xué)、物理刻蝕方法，將電路圖形傳遞到單晶表面或介質(zhì)層上，形成有效圖形窗口或功能圖形的工藝技術(shù)。隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，光刻技術(shù)傳遞圖形的尺寸限度縮小了2～3個數(shù)量級（從毫米級到亞微米級），已從常規(guī)光學(xué)技術(shù)發(fā)展到應(yīng)用電子束、...

● 儀表盤面為MPa刻度值直接讀取● 精度等級0.25% 0.4%● 雙層鏡面表盤● 設(shè)有度盤調(diào)零裝置● 鐵噴塑表殼● 銅合金內(nèi)機部件● 測量范圍-0.1至60MPa 外型尺寸示意圖精密壓力表的測量范圍分類：1.微壓表（指儀表測量上限值小于0.1MPa的儀表）...

EUV光刻系統(tǒng)的發(fā)展歷經(jīng)應(yīng)用基礎(chǔ)研究至量產(chǎn)四個階段，其突破得益于多元主體協(xié)同創(chuàng)新和全產(chǎn)業(yè)鏈資源整合 [3]。截至2024年12月，EUV技術(shù)已應(yīng)用于2nm芯片量產(chǎn)，但仍需優(yōu)化光源和光刻膠性能。下一代技術(shù)如納米壓印和定向自組裝正在研發(fā)中 [6]。**光刻系統(tǒng)主要...

定焦鏡頭的好處，主要體現(xiàn)在短焦段的使用上：⒈定焦的廣角或標(biāo)準(zhǔn)鏡頭一般都比涵蓋相應(yīng)焦距段的變焦鏡頭口徑大。一般的定焦廣角和中焦鏡頭的光圈都在2.8以上，通光量大，便于在低照度情況下拍攝。定焦鏡頭⒉定焦的廣角鏡頭一般都比涵蓋相應(yīng)焦距段的變焦鏡頭**短對焦距離近。比...

優(yōu)點雖然使用長焦距鏡頭要受到不少因素的影響，但其優(yōu)點卻是主要的。在遠(yuǎn)距離拍攝風(fēng)光、人物，在看臺拍攝舞臺、體育比賽等，在動物園拍攝動物，在野外拍攝禽獸，加輔助鏡進行近拍等等，在這些眾多的領(lǐng)域中，無處不是它的用武之地。在一般情況下拍攝，為了保持照相機的穩(wěn)定，比較好...

***，安提基特拉機械前方面板是現(xiàn)代天文年鑒的前身（Parapegma），可以設(shè)定標(biāo)記特定恒星的升起。一般認(rèn)為每顆恒星都以機械上一個希臘文字母做標(biāo)記。在機械后面上方的轉(zhuǎn)盤是螺旋形，每次旋轉(zhuǎn)分成47個部分，**19年或235個朔望月的默冬章。該循環(huán)對于歷法修正很...

極紫外光刻系統(tǒng)是采用13.5納米波長極紫外光源的半導(dǎo)體制造**設(shè)備，可將芯片制程推進至7納米、5納米及更先進節(jié)點。該系統(tǒng)由荷蘭阿斯麥公司于2019年推出第五代產(chǎn)品，突破光學(xué)衍射極限，將摩爾定律物理極限推向新高度。2021年12月14日，中國工程院***發(fā)布的"...

視角范圍大，可以涵蓋大范圍景物。所謂視角范圍大，即在同一視點（與被攝物的距離保持不變）用廣角、標(biāo)準(zhǔn)和遠(yuǎn)攝三種不同焦距的攝影鏡頭取景，結(jié)果是前者要比后者在上下左右拍攝到更多的景物。當(dāng)攝影者在沒有退路的情況下，若用50毫米標(biāo)準(zhǔn)鏡頭難以完整拍下的景物（如人物集體留影...

德瑞克·約翰·德索拉·普萊斯提出該裝置可能是公開展示，地點或許是羅德島上的博物館或公共會堂。羅德島在當(dāng)時是以機械工程聞名，尤其是羅德島人擅長的自動機械。古希臘九大抒情詩人中的品達(dá)在他的第七首奧林匹克頌中提及：The animated figures stand...

EUV光刻技術(shù)的發(fā)展能否趕得上集成電路制造技術(shù)的要求？這仍然是一個問題。當(dāng)然，EUV光刻技術(shù)的進步也是巨大的。截止2016年，用于研發(fā)和小批量試產(chǎn)的EUV光刻機，已經(jīng)被安裝在晶圓廠，并投入使用 [1]。EUV光刻所能提供的高分辨率已經(jīng)被實驗所證實。光刻機供應(yīng)商...

艾倫·布隆萊一個和普賴斯有差異的重建模型是由澳大利亞悉尼大學(xué)的計算機科學(xué)家艾倫·布隆萊和悉尼的一位鐘表師法蘭克·帕西瓦爾建立。布隆萊和麥可·萊特合作使用更精密的X光影像重建新的模型。麥可·萊特曾擔(dān)任倫敦科學(xué)博物館機械部門主管，現(xiàn)任職于帝國理工學(xué)院的麥可·萊特和...

能使前后被攝物產(chǎn)生壓縮感。遠(yuǎn)攝鏡頭的另一個***的效果是將遠(yuǎn)處被攝體“拉近”，從而使前后被攝物產(chǎn)生被壓縮的感覺。在一些重大體育賽事中，成群的攝影記者往往架起大炮般的遠(yuǎn)攝鏡頭拍攝馬拉松賽跑起跑時運動員重重疊疊的場景，這是因為在這種場合中，攝影者依賴遠(yuǎn)攝鏡頭遠(yuǎn)離被...

掃描投影曝光（Scanning Project Printing）。70年代末～80年代初，〉1μm工藝；掩膜板1：1，全尺寸；步進重復(fù)投影曝光（Stepping-repeating Project Printing或稱作Stepper）。80年代末～90年代...