電動(dòng)三可變鏡頭與自動(dòng)光圈電動(dòng)變焦鏡頭相比，只是將對(duì)光圈調(diào)整電機(jī)的控制由自動(dòng)控制改為由控制器來手動(dòng)控制。按焦距（約50度左右），廣角鏡頭和特廣角鏡頭（100-120度）標(biāo)準(zhǔn)鏡頭視角約50度，也是人單眼在頭和眼不轉(zhuǎn)動(dòng)的情況下所能看到的視角，所以又稱為標(biāo)準(zhǔn)鏡頭。5m...

普萊斯在以上文章中發(fā)表的模式是較早基于放射影像所見該機(jī)械內(nèi)部結(jié)構(gòu)之后，提出的較早理論重建模式。他的模式中，機(jī)械前方的轉(zhuǎn)盤**太陽和月球在古埃及歷法上黃道帶的位置。在儀器后面的上方轉(zhuǎn)盤則顯示一個(gè)四年周期，并且和顯示周期為235個(gè)朔望月的默冬章相關(guān)，這和19個(gè)回歸...

集成電路制造中利用光學(xué)- 化學(xué)反應(yīng)原理和化學(xué)、物理刻蝕方法，將電路圖形傳遞到單晶表面或介質(zhì)層上，形成有效圖形窗口或功能圖形的工藝技術(shù)。隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，光刻技術(shù)傳遞圖形的尺寸限度縮小了2～3個(gè)數(shù)量級(jí)（從毫米級(jí)到亞微米級(jí)），已從常規(guī)光學(xué)技術(shù)發(fā)展到應(yīng)用電子束、...

魚眼鏡頭通常采用內(nèi)置濾光鏡的方式，根據(jù)拍攝需要，由攝影者操縱鏡頭上的濾光鏡轉(zhuǎn)換環(huán)，使需要的濾光鏡轉(zhuǎn)換至鏡頭的攝影光路中。魚眼鏡頭的前鏡片是整個(gè)鏡頭中相當(dāng)重要的鏡片，由于它向鏡頭前部拋出，故攝影者在拍攝操作（尤其是湊近被攝物拍攝）時(shí)要特別注意不要碰撞鏡片。另外，...

涂底方法：a、氣相成底膜的熱板涂底。HMDS蒸氣淀積，200～250C,30秒鐘；優(yōu)點(diǎn)：涂底均勻、避免顆粒污染；b、旋轉(zhuǎn)涂底。缺點(diǎn)：顆粒污染、涂底不均勻、HMDS用量大。目的：使表面具有疏水性，增強(qiáng)基底表面與光刻膠的黏附性旋轉(zhuǎn)涂膠方法：a、靜態(tài)涂膠（Stati...

主要技術(shù)指標(biāo)：○精密壓力表測量范圍、精確度等級(jí)○型號(hào)、彈簧管材料、測量范圍MPa、精確度等級(jí)、結(jié)構(gòu)特點(diǎn)○精密壓力表使用環(huán)境條件：5～40℃，相對(duì)濕度不大于80%，且環(huán)境震動(dòng)和壓力源的波動(dòng)對(duì)儀表的精確讀數(shù)無影響?！鹁軌毫Ρ頊囟扔绊懀菏褂铆h(huán)境溫度如偏離20±3℃...

11、導(dǎo)柱導(dǎo)柱是為上、下模座相對(duì)運(yùn)動(dòng)提供精密導(dǎo)向的圓柱形零件，多數(shù)固定在下模座，與固定在上模座的導(dǎo)套配合使用。12、導(dǎo)正銷導(dǎo)正銷是伸入材料孔中導(dǎo)正其在凹模內(nèi)位置的銷形零件。13、導(dǎo)板模導(dǎo)板模是以導(dǎo)板作導(dǎo)向的沖模，模具使用時(shí)凸模不脫離導(dǎo)板。14、導(dǎo)料板導(dǎo)料板是引...

制造掩模版，比較靈活。但由于其曝光效率低，主要用于實(shí)驗(yàn)室小樣品納米制造。而電子束曝光要適應(yīng)大批量生產(chǎn)，如何進(jìn)一步提高曝光速度是個(gè)難題。為了解決電子束光刻的效率問題，通常將其與其他光刻技術(shù)配合使用。例如為解決曝光效率問題，通常采用電子束光刻與光學(xué)光刻進(jìn)行匹配與混...

其主要成像原理是光波波長為10～14nm的極端遠(yuǎn)紫外光波經(jīng)過周期性多層膜反射鏡投射到反射式掩模版上，通過反射式掩模版反射出的極紫外光波再通過由多面反射鏡組成的縮小投影系統(tǒng)，將反射式掩模版上的集成電路幾何圖形投影成像到硅片表面的光刻膠中，形成集成電路制造所需要的...

2005年，X射線檢測提供了關(guān)鍵的線索——?dú)埰瑑?nèi)部隱藏了數(shù)千個(gè)一直都未曾被閱讀的字符。雷姆在1905年到1906年間的研究筆記表示，前板載有可知太陽和行星位置的同心環(huán)形天象演示系統(tǒng)。裝置配有前、后兩蓋以保護(hù)顯示系統(tǒng)，并刻有大量銘文。2005年的掃描結(jié)果顯示，后...

用長焦頭拍攝遠(yuǎn)處景物，影像質(zhì)量受天氣影響較大，紫外線、塵埃和水汽都會(huì)使影像清晰度下降、反差變?nèi)鹾蜕什伙柡汀Ｒ虼?，用長焦頭拍攝遠(yuǎn)處景物時(shí)，比較好要選擇反差較大、色彩較飽和的景物做拍攝對(duì)象。此外，攝影時(shí)可用UV鏡、天光鏡或偏振鏡來提高影像清晰度；若是黑白攝影，還...

1902年5月17日，考古學(xué)家維拉理奧斯·史大理斯檢查發(fā)現(xiàn)的沉船中物品時(shí)發(fā)現(xiàn)一個(gè)齒輪嵌在一塊巖石中。 [1]史大理斯一開始認(rèn)為這是天文鐘，但多數(shù)學(xué)者認(rèn)為這是時(shí)代錯(cuò)誤，這物品和同時(shí)期發(fā)現(xiàn)的其他東西相較之下太過復(fù)雜。對(duì)該物品調(diào)查的熱潮很快下降，直到1951年英國物...

制造掩模版，比較靈活。但由于其曝光效率低，主要用于實(shí)驗(yàn)室小樣品納米制造。而電子束曝光要適應(yīng)大批量生產(chǎn)，如何進(jìn)一步提高曝光速度是個(gè)難題。為了解決電子束光刻的效率問題，通常將其與其他光刻技術(shù)配合使用。例如為解決曝光效率問題，通常采用電子束光刻與光學(xué)光刻進(jìn)行匹配與混...

由測量系統(tǒng)、指示部分和表殼部分等組成。2.測量系統(tǒng)——由接頭，彈簧管和齒輪轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)等組成。3.由被測介質(zhì)的壓力作用，使彈簧管的末端（自由端）相應(yīng)地產(chǎn)生位移，借助連桿帶動(dòng)機(jī)構(gòu)中的扇形齒輪產(chǎn)生一角位移，而使齒輪軸得以偏轉(zhuǎn)——傳給指示部分。4.指示部分——由分度盤、...

在拍攝廣闊的大場面時(shí)，攝影者一般都依靠廣角鏡頭焦距短，表現(xiàn)的景物景深長的特點(diǎn)，將從近到遠(yuǎn)的整個(gè)景物都納入清晰表現(xiàn)的范圍。此外，用廣角鏡頭拍攝時(shí)，如果同時(shí)采用較小的光圈，則景物的景深就會(huì)變得更長。例如，攝影者用一個(gè)28毫米的廣角鏡頭拍攝，焦點(diǎn)對(duì)在約3米左右的被攝...

世界上***部糾偏裝置,英文：Deviation rectifying device，是美塞斯的FIFE糾發(fā)明的，是糾偏裝置是電子糾偏系統(tǒng)的心臟。糾偏裝置是一種修正卷材在向前運(yùn)動(dòng)中出現(xiàn)的側(cè)邊誤差的機(jī)械裝置，位移式糾偏是通過更改卷材在進(jìn)口和出口跨度來實(shí)現(xiàn)卷材側(cè)邊...

特點(diǎn)長焦鏡頭以適用于35毫米單鏡頭反光照相機(jī)的交換鏡頭為例，遠(yuǎn)攝鏡頭通常是指焦距約在80至400毫米之間的攝影鏡頭。遠(yuǎn)攝鏡頭**基本的特點(diǎn)是，鏡頭視角小，所以視野范圍相對(duì)狹窄；能把遠(yuǎn)處的景物拉近，使之充滿畫面，具有“望遠(yuǎn)”的功能，從而使景物的遠(yuǎn)近感消失；縮短了...

光刻系統(tǒng)SUSS是一種應(yīng)用于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的工藝試驗(yàn)儀器，其比較大基片尺寸為6英寸，可實(shí)現(xiàn)0.5μm的分辨率和1μm的**小線寬 [1]。該系統(tǒng)通過精密光學(xué)曝光技術(shù)完成微電子器件的圖形轉(zhuǎn)移，為集成電路研發(fā)和生產(chǎn)提供關(guān)鍵工藝支持。比較大基片處理能力：支持直徑6英...

c、水坑（旋覆浸沒）式顯影（Puddle Development）。噴覆足夠（不能太多，**小化背面濕度）的顯影液到硅片表面，并形成水坑形狀（顯影液的流動(dòng)保持較低，以減少邊緣顯影速率的變化）。硅片固定或慢慢旋轉(zhuǎn)。一般采用多次旋覆顯影液：***次涂覆、保持10～...

③縮短圖像傳遞鏈，減少工藝上造成的缺陷和誤差，可獲得很高的成品率。④采用精密自動(dòng)調(diào)焦技術(shù)，避免高溫工藝引起的晶片變形對(duì)成像質(zhì)量的影響。⑤采用原版自動(dòng)選擇機(jī)構(gòu)（版庫），不但有利于成品率的提高，而且成為能靈活生產(chǎn)多電路組合的常規(guī)曝光系統(tǒng)。浸入式光刻技術(shù)原理這種系統(tǒng)...

廣角鏡頭是一種焦距短于標(biāo)準(zhǔn)鏡頭、視角大于標(biāo)準(zhǔn)鏡頭、焦距長于魚眼鏡頭、視角小于魚眼鏡頭的攝影鏡頭。廣角鏡頭又分為普通廣角鏡頭和超廣角鏡頭兩種。普通廣角鏡頭的焦距一般為38－24毫米，視角為60－84度；超廣角鏡頭的焦距為20－13毫米，視角為94-118度。由于...

選購廣角數(shù)碼相機(jī)時(shí)除了要注意相機(jī)的整體性能外，還需要著重考察其鏡頭表現(xiàn)。鏡頭畸變情況是我們首先需要考慮的因素。一般來說廣角下拍攝更容易產(chǎn)生畸變，但不同的相機(jī)所拍攝的照片變形的程度也不同，總體而言畸變越輕微越好。其次也要注意畫面的解析度，由于受到成本的限制，數(shù)碼...

長焦距鏡頭是指比標(biāo)準(zhǔn)鏡頭的焦距長的攝影鏡頭。長焦距鏡頭分為普通遠(yuǎn)攝鏡頭和超遠(yuǎn)攝鏡頭兩類。普通遠(yuǎn)攝鏡頭的焦距長度接近標(biāo)準(zhǔn)鏡頭，而超遠(yuǎn)攝鏡頭的焦距卻遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于標(biāo)準(zhǔn)鏡頭。以135照相機(jī)為例，其鏡頭焦距從85毫米-300毫米的攝影鏡頭為普通遠(yuǎn)攝鏡頭，300毫米以上的為超...

由于193nm沉浸式工藝的延伸性非常強(qiáng)，同時(shí)EUV技術(shù)耗資巨大進(jìn)展緩慢。EUV（極紫外線光刻技術(shù)）是下一代光刻技術(shù)（<32nm節(jié)點(diǎn)的光刻技術(shù)）。它是采用波長為13.4nm的軟x射線進(jìn)行光刻的技術(shù)。EUV光刻的基本設(shè)備方面仍需開展大量開發(fā)工作以達(dá)到適于量產(chǎn)的成熟...

顯影中的常見問題：a、顯影不完全（Incomplete Development）。表面還殘留有光刻膠。顯影液不足造成；b、顯影不夠（Under Development）。顯影的側(cè)壁不垂直，由顯影時(shí)間不足造成；c、過度顯影（Over Development）。靠...

28、頂板頂板是在凹?；蚰K內(nèi)活動(dòng)的板狀零件，以向上動(dòng)作直接或間接頂出工（序）件或廢料。29、齒圈齒圈是精沖凹?；驇X壓料板上的成圈齒形突起，是凹?；驇X壓料板的局部結(jié)構(gòu)而不是單獨(dú)的零件。30、限位套限位套是用于限制沖模**小閉合高度的管狀零件，一般套于導(dǎo)柱外...

按接口C型鏡頭法蘭焦距是安裝法蘭到入射鏡頭平行光的匯聚點(diǎn)之間的距離。法蘭焦距為17.526mm或0.690in。安裝羅紋為：直徑1in，32牙.in。鏡頭可以用在長度為0.512in (13mm)以內(nèi)的線陣傳感器。但是，由于幾何變形和市場角特性，必須鑒別短焦鏡...

特點(diǎn)長焦鏡頭以適用于35毫米單鏡頭反光照相機(jī)的交換鏡頭為例，遠(yuǎn)攝鏡頭通常是指焦距約在80至400毫米之間的攝影鏡頭。遠(yuǎn)攝鏡頭**基本的特點(diǎn)是，鏡頭視角小，所以視野范圍相對(duì)狹窄；能把遠(yuǎn)處的景物拉近，使之充滿畫面，具有“望遠(yuǎn)”的功能，從而使景物的遠(yuǎn)近感消失；縮短了...

22、壓料檻壓料檻是斷面呈矩形的壓料筋特稱。參閱“壓料筋”。23、承料板承料板是用于接長凹模上平面，承托沖壓材料的板狀零件。24、連續(xù)模連續(xù)模是具有兩個(gè)或更多工位的沖模，材料隨壓力機(jī)行程逐次送進(jìn)一工位，從而使沖件逐步成形。25、側(cè)刃側(cè)刃是在條（帶、卷）料側(cè)面切...

由于193nm沉浸式工藝的延伸性非常強(qiáng)，同時(shí)EUV技術(shù)耗資巨大進(jìn)展緩慢。EUV（極紫外線光刻技術(shù)）是下一代光刻技術(shù)（<32nm節(jié)點(diǎn)的光刻技術(shù)）。它是采用波長為13.4nm的軟x射線進(jìn)行光刻的技術(shù)。EUV光刻的基本設(shè)備方面仍需開展大量開發(fā)工作以達(dá)到適于量產(chǎn)的成熟...